1. 產(chǎn)品概述
離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項(xiàng)，包括直開(kāi)式、單襯底傳送模式和盒式對(duì)盒式模式。系統(tǒng)配置與實(shí)際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào)，以確保獲得速率更快且重復(fù)性更好的工藝結(jié)果。百科：?離子束刻蝕系統(tǒng)（IBE）是一種物理刻蝕技術(shù)，利用輝光放電原理將氬氣分解為氬離子，并通過(guò)陽(yáng)極電場(chǎng)加速的離子束對(duì)樣品表面進(jìn)行物理轟擊，以達(dá)到刻蝕的目的。?離子束刻蝕（IBE），也稱為離子銑（Ion Beam Milling），是一種具有強(qiáng)方向性的物理刻蝕機(jī)理，能夠產(chǎn)生各向異性刻蝕，適用于小尺寸圖形的加工。
2. 設(shè)備特點(diǎn)
磁阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器（MRAM）；
介電薄膜；
III-V族光電子材料刻蝕；
自旋電子學(xué)；
金屬電極和軌道；
超導(dǎo)體；
激光端面鍍膜；
高反射（HR）膜；
防反射（AR）膜；
環(huán)形激光陀螺反射鏡；
X射線光學(xué)系統(tǒng)；
紅外（IR）傳感器；
II-VI族材料；
通信濾波器。
化工儀器網(wǎng)