1. 產品概述
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)，優(yōu)良的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。
2. 設備用途/原理
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)，優(yōu)良的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率，加熱基座和高溫靜電卡盤設計，具備良好的溫度均勻性，全新雙腔傳輸平臺，可配置性強，多可支持 10 個工藝模塊，優(yōu)質的 Whisker 解決方案，降低產品缺陷，大產能，低運營成本。
3. 設備特點
晶圓尺寸 8、12 英寸，適用材料 高溫鋁、氮化鉭、氮化鈦。適用工藝 熱鋁、鋁焊盤、鋁線，適用域 新興應用。
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