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當前位置：深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導體前道工藝設備>>2 PVD>> Polaris系列8英寸 通用物理氣相沉積系統(tǒng)
| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號Polaris系列
品牌北方華創(chuàng)
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地北京市
更新時間：2024-09-05 16:01:00瀏覽次數(shù)：289次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)1. 產(chǎn)品概述
Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
2. 設備用途/原理
Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力，獨立工藝腔室，多可支持 6 個工藝模塊，優(yōu)異的溫度，顆?？刂颇芰?/span>，配置靈活、大產(chǎn)能、低運營成本。
3. 設備特點
晶圓尺寸 6、8 英寸，適用材料 銀、鎢化鈦、金、鉑、鈦、氮化鈦、鋁、鉻等，適用工藝 倒裝工藝、金屬電等，適用域 新興應用、科研、化合物半導體。物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)技術是指在真空條件下采用物理方法將材料源（固體或液體）表面氣化成氣態(tài)原子或分子，或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術， 物理氣相沉積是主要的表面處理技術之一。
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