深圳市矢量科學儀器有限公司

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CMP后清洗機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號GNP CLEANER-412R

品牌G&P

廠商性質經銷商

所在地韓國

更新時間:2024-09-04 17:19:20瀏覽次數(shù):237次

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GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站,設計緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。

1. 基本參數(shù)

適用晶圓尺寸:100mm(4") ~ 300mm(12")

配置:輸入噴淋清洗,兩個雙面刷清洗和旋轉漂洗干燥(可選:分離QDR)

清洗機尺寸:1610w 1260d 1640hmm電刷尺寸:070(外徑)031(內徑)170()毫米

預清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學:nh4ohDIW

刷頭型式:PVA刷頭,可同時清洗晶圓片的正反面

刷位調節(jié):手動控制(可用刷隙范圍:-10mm ~ 2mm)

轉速:<滿量程的±5%范圍30 ~ 400rpm

化學品供應:4個噴嘴和通過毛刷

可用化學品:2個化學品[NH4OH]

化學和DI流量:<滿量程的±5%。

轉站

選項:超高速掃描

旋轉速度:最高2500/DI漂洗/ N2

控制工藝流程:手動加載,自動順序,濕/干液晶觸摸屏顯示器,程序控制PLC式。



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