深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 原子層沉積ALD

    Phoenix®系統(tǒng)經(jīng)過精心設(shè)計，可在從中試生產(chǎn)到工業(yè)級制造的任何制造環(huán)境中實現(xiàn)高吞吐量和最長的正常運行時間。技術(shù)人員和研究人員依靠 Phoenix&...
    型號： Phoenix 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:02:26 對比

  • 立式/臥式管舟清洗設(shè)備

    Bpure系列 立式/臥式管舟清洗設(shè)備，全自動清洗，浸泡式清洗與噴淋式清洗工藝可選。
    型號： Bpure系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:01:28 對比

  • 桌面式高精密3D光刻機

    織雀™PL-3D 是托托科技自主研發(fā)的桌面式高精密3D光刻設(shè)備，光學(xué)精度達5μm。在復(fù)雜三維微納結(jié)構(gòu)、高深寬比微納結(jié)構(gòu)以及復(fù)合材料三維微納結(jié)構(gòu)制造方...
    型號： 織雀™... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:58:29 對比

  • ICP 刻蝕機

    NMC 508系列 ICP刻蝕機是電感耦合高密度等離子體（Inductively Coupled Plasma, ICP）干法刻蝕機，具有高精度、高選擇性和高效...
    型號： NMC 508系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:58:11 對比

  • 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途：用于...
    型號： PLD300 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:54:51 對比

  • AL實時監(jiān)控器

    SENTECH AL 實時監(jiān)測器是一種經(jīng)過驗證的光學(xué)診斷工具，可實現(xiàn)單個 ALD 和 ALE 周期的超高分辨率。主要應(yīng)用是在不破壞真空的情況下分析薄膜特性（生長...
    型號： SENTECH A... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:53:27 對比

  • 噪聲系數(shù)分析儀和噪聲源

    噪聲系數(shù)分析儀和噪聲源解決方案包括噪聲系數(shù)分析儀、適用于是德科技信號分析儀和網(wǎng)絡(luò)分析儀的噪聲系數(shù)測量專用軟件等等。 我們還提供了各式各樣的噪聲源，進一步完善這些...
    型號： NFA 系列 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:51:18 對比

  • 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等組成。設(shè)備用途：脈沖激光沉積(Pu...
    型號： PLD450 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:49:09 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。
    型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:48:10 對比

  • 晶圓鍵合機

    新型的 XBC300 Gen2 D2W/W2W晶圓鍵合機 是將所有現(xiàn)有混合鍵合工藝集成到單一設(shè)備中的平臺： W2W、集體 D2W 和順序 D2W。這是蘇斯微技術(shù)...
    型號： XBC300 Ge... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:42:26 對比

  • 波形/函數(shù)信號測試發(fā)生器

    波形/函數(shù)信號測試發(fā)生器提供您期望的標(biāo)準(zhǔn)信號和功能 — 調(diào)制、掃描和突發(fā)。它還具有一些功能，可為您提供快速完成工作所需的功能和靈活性，無論工作多么復(fù)雜。
    型號： Trueform ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:40:28 對比

  • 測量系統(tǒng)

    DSM8/200 Gen2測量系統(tǒng)用于研發(fā)和大量產(chǎn)的對準(zhǔn)測量SUSS DSM為廣泛的應(yīng)用和基板提供從正面到反面的測量。測量結(jié)果詳細(xì)列出了了偏移矢量的各個分量：平...
    型號： DSM8/200 ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:38:20 對比

  • 掩模對準(zhǔn)光刻機

    掩模對準(zhǔn)光刻機是用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動化掩模對準(zhǔn)平臺。SUSS MicroTec 的 MA300 Gen3 是一款高度自動化的掩模...
    型號： MA300 Gen... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:31:21 對比

  • 化學(xué)機械磨拋機

    SL-1023化學(xué)機械磨拋機，適用于 CMP 平坦化和平滑化工藝技術(shù)， 整機研磨部分采用防腐材料，耐化學(xué)腐蝕，配置自動滴料器和精密磨拋控制儀，全自動觸摸屏面板，...
    型號： SL-1023 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:27:34 對比

  • 鍵合對準(zhǔn)機

    鍵合對準(zhǔn)機BA Gen4 是專為手動對準(zhǔn)并鍵合兩個 200 毫米以下晶圓而設(shè)計的。選配掩模對準(zhǔn)器工具后還可使用各種功能。BA Gen4 Series 用于先進封...
    型號： BA Gen4 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:25:43 對比

  • 掩膜自動處理系統(tǒng)

    掩模的完整性對高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn)。它是應(yīng)對 ...
    型號： MaskTrack... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:14:28 對比

  • 功率分析儀

    是德科技交流功率分析儀更快速、更輕松地完成所有重要的功率測量。是德科技直流電源分析儀，幾分鐘即可洞察直流上電性能。 無需任何編程，在研發(fā)階段輕松執(zhí)行直流上電測試
    型號： PA220系列 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 22:02:54 對比

  • 脈沖信號測試機

    是德科技高速脈沖發(fā)生器為數(shù)字和模擬波形及數(shù)據(jù)信號的生成提供了全面的激勵解決方案組合。是德科技脈沖信號測試機設(shè)備的頻率范圍為 1μHz 至 56 Gb/s，輸出幅...
    型號： 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 21:31:45 對比

  • KEYSIGHT直流電源

    KEYSIGHT直流電源 在選擇過程中應(yīng)考慮的關(guān)鍵特性來幫助您選擇正確的可變直流電源?？删幊讨绷麟娫吹年P(guān)鍵方面包括可用功率、噪聲要求、編程精度、可用軟件等。
    型號： E36200 系列 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 21:25:14 對比

  • 精密型電流－電壓分析儀

    精密型電流－電壓分析儀系列將功能強大的表征軟件與綜合 SMU 結(jié)合，能夠確保準(zhǔn)確和高效的電流－電壓測量，為您分析各種應(yīng)用中的 IV 特征提供清晰的洞察力。
    型號： B1500A 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 21:24:12 對比
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