簡(jiǎn)要描述：雙束電鏡借助這款掃描電子顯微鏡的超快速度,開啟您對(duì)新維度的探索?，F(xiàn)如今,高分辨率掃描電子顯微鏡在MultiSEM出色的圖像采集速度推動(dòng)下,您終于能夠以...

簡(jiǎn)要描述：掃描電鏡操作直觀的模塊化掃描電子顯微鏡(SEM)平臺(tái)適用于日常檢測(cè)與研究應(yīng)用，高可用性：EVO配備的兩種用戶界面(SmartSEMTouch和Smar...

簡(jiǎn)要描述：蔡司雙束掃描電鏡借助這款掃描電子顯微鏡的超快速度,開啟您對(duì)新維度的探索。現(xiàn)如今,在MultiSEM出色的圖像采集速度推動(dòng)下,您終于能夠以納米級(jí)的圖像分...

簡(jiǎn)要描述：掃描電子顯微鏡SEM6具有出色的探測(cè)效率，能夠輕松地實(shí)現(xiàn)亞納米分辨成像。無(wú)論是在高真空還是在可變壓力模式下，更高的表面細(xì)節(jié)信息靈敏度讓您在對(duì)任意樣品進(jìn)...

簡(jiǎn)要描述：掃描電子顯微鏡SEM5將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗(yàn)結(jié)合在一起， 同時(shí)能夠吸引經(jīng)驗(yàn)豐富的用戶以及新用戶。無(wú)論是在生命科學(xué)， 材料科學(xué)，...

簡(jiǎn)要描述：卡爾蔡司電子顯微鏡SEM，將高級(jí)的分析性能與場(chǎng)發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件。多種探測(cè)器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成...

簡(jiǎn)要描述：掃描電子顯微鏡SEM4借助 MultiSEM 顯微鏡，您可以充分運(yùn)用 91 條并行電子束的采集速度。現(xiàn)如今，您能夠以納米分辨率對(duì)厘米級(jí)樣品成像。這款出...

簡(jiǎn)要描述：掃描電子顯微鏡SEM3的FIB-SEM結(jié)合了場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)出色的成像和分析性能，和新一代聚焦離子束(FIB)優(yōu)異的加工性能。無(wú)論...

簡(jiǎn)要描述：掃描電子顯微鏡SEM2 是學(xué)術(shù)和研究機(jī)構(gòu)使用的一款分析型掃描電子顯微鏡。EVO 18 Research 為您提供優(yōu)異的成像品質(zhì)，具有處理多種材料的能力...

簡(jiǎn)要描述：掃描電子顯微鏡SEM標(biāo)配能譜儀和波譜儀(EDSWDC)接口，另有用于高級(jí)形貌與化學(xué)分析的全集成式顆粒分析和識(shí)別解決方案可供選擇。通過升級(jí)LaB6高亮度...

簡(jiǎn)要描述：工業(yè)顯微鏡Axiolab 5易于操作且符合人體工程學(xué)的設(shè)計(jì)理念，新型進(jìn)口蔡司工業(yè)電子顯微鏡成為實(shí)驗(yàn)室日常工作的好幫手。只需單手便可操作所有的主要控件，...

簡(jiǎn)要描述：關(guān)聯(lián)工業(yè)掃描電子顯微鏡技術(shù)為您提供了集成化的解決方案和無(wú)縫銜接的工作流程。選擇蔡司作為光學(xué)顯微鏡、電子顯微鏡、離子束顯微鏡和X射線顯微鏡的供應(yīng)商，并從...

簡(jiǎn)要描述：ZEISS掃描電子顯微鏡EVO將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗(yàn)結(jié)合在一起， 同時(shí)能夠吸引經(jīng)驗(yàn)豐富的用戶以及新用戶。無(wú)論是在生命科學(xué)， 材...

簡(jiǎn)要描述:景深數(shù)碼電子顯微鏡蔡司公司面向發(fā)布一款智能3D數(shù)碼顯微鏡Smartzoom5，這是一款為工業(yè)質(zhì)量控制領(lǐng)域及研究方向的客戶提供的一項(xiàng)全新解決方案?？蓪?duì)樣...

簡(jiǎn)要描述：X射線顯微鏡：作為Xradia Versa系列中前沿的產(chǎn)品，蔡司顯微鏡在科研和工業(yè)研究領(lǐng)域?yàn)槟_啟多樣化應(yīng)用的新高度。基于高分辨率和襯度成像技術(shù)，Xr...

簡(jiǎn)要描述：原子層蝕刻設(shè)備是一種的蝕刻技術(shù)，可精準(zhǔn)的控制其蝕刻深度。隨著元件尺寸的進(jìn)一步減小，需要進(jìn)一步的使用ALE才能達(dá)到其所需的精度。

簡(jiǎn)要描述：感應(yīng)耦合電漿蝕刻是在標(biāo)準(zhǔn)反應(yīng)離子蝕刻（RIE）的基礎(chǔ)上，添加電感耦合電漿的。感應(yīng)耦合電漿由磁場(chǎng)圍繞石英晶體管所提供。產(chǎn)生的高密度電漿被線圈包圍，將充當(dāng)...

簡(jiǎn)要描述：反應(yīng)離子蝕刻設(shè)備機(jī)器中可以非常精確地控制其蝕刻輪廓、蝕刻速率和均勻性，并具有重復(fù)性。等向性蝕刻以及非等向性蝕刻都是可能的。

簡(jiǎn)要描述：RIE等離子刻蝕機(jī)SI 591：預(yù)真空室和計(jì)算機(jī)控制的等離子體刻蝕工藝條件，使得SI 591 具有優(yōu)異的工藝再現(xiàn)性和等離子體蝕刻工藝靈活性。靈活性、模...

簡(jiǎn)要描述等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì)，可升級(jí)為更大的真空泵組，預(yù)真空室和更多的氣路。