簡要描述：PECVD等離子沉積設備DEPOLAB 200根據(jù)其模塊化設計，PECVD Depolab 200可升級為更大的真空泵組，低頻射頻源和更多的氣路。

簡要描述：帶預真空室的化學氣相沉積設備SI 500 PPD的特色是預真空室和干泵裝置，用于無油、高產(chǎn)量和潔凈的化學氣相沉積過程。

簡要描述：等離子沉積設備SI 500 D低刻蝕速率，高擊穿電壓，低應力、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度，使得所沉積的薄膜具有優(yōu)...

簡要描述：化學氣相沉積系統(tǒng)PECVD沉積設備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標準的化學氣相...

簡要描述：三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預真...

簡要描述：SENTECH二維材料刻蝕沉積能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟擊...

簡要描述：原子層沉積設備：真遠程等離子體源能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟...

簡要描述：PECVD等離子沉積設備Depolab 200是SENTECH基本的等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備，它結(jié)合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設...

簡要描述：帶預真空室的化學氣相沉積設備PECVD沉積設備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標...

簡要描述：等離子沉積設備低刻蝕速率，高擊穿電壓，低應力、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度，使得所沉積的薄膜具有優(yōu)異的性能。

簡要描述：X射線探傷機2公司制造X射線工業(yè)設備用于控制產(chǎn)品質(zhì)量，如應用于汽車、航空和食品等部門。此外，公司制造的X射線設備也應用于醫(yī)療和安全部門。每個產(chǎn)品在國內(nèi)...

簡要描述：X射線探傷機X 射線工業(yè)設備用于控制產(chǎn)品質(zhì)量，如應用于汽車、航空航天、管件、研究所和食品等不同行業(yè)。此外，制造的 X 射線設備也應用于醫(yī)療和安檢部門。...

簡要描述：奧林巴斯生物顯微鏡三目倒置式IX83：奧林巴斯IX83是一臺全電動的倒置生物顯微鏡，智能型的全電動顯微鏡兼具大視野(FN22，左側(cè)光口)和IX3-ZD...

簡要描述：尼康基礎偏光顯微鏡LV100 POL優(yōu)異的光學性能、用途廣泛尼康顯微鏡以高品質(zhì)獲得了市場的認可，偏光檢驗可用于各種專業(yè)。新開發(fā)的高亮度作為該機種鹵素光...

簡要描述：尼康超高分辨率顯微鏡N-SIM以傳統(tǒng)光學顯微技術所從未達到的分辨率呈現(xiàn)出極為清晰的細胞結(jié)構(gòu)與分子活動.尼康新推出的N-SIM顯微鏡系統(tǒng)可獲得傳統(tǒng)光學顯...

激光掃描圖形檢測系統(tǒng)簡要描述：激光掃描系統(tǒng)該儀器被設計用于工藝和材料的質(zhì)量監(jiān)控，例如單晶或多晶硅。多晶硅磚切割標準的自動輸出。能夠根據(jù)爐子的輸出質(zhì)量進行單獨的爐...

激光捕獲顯微切割系統(tǒng) Accuva Cellect 是一種利用激光技術進行細胞和組織切割的設備。該系統(tǒng)結(jié)合了紅外（IR）激光捕獲和紫外（UV）激光切割兩種技術，...