簡要描述：掃描電子顯微鏡SEM4借助 MultiSEM 顯微鏡，您可以充分運用 91 條并行電子束的采集速度。現(xiàn)如今，您能夠以納米分辨率對厘米級樣品成像。這款出...

簡要描述：掃描電子顯微鏡SEM3的FIB-SEM結(jié)合了場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)出色的成像和分析性能，和新一代聚焦離子束(FIB)優(yōu)異的加工性能。無論...

簡要描述：掃描電子顯微鏡SEM2 是學(xué)術(shù)和研究機構(gòu)使用的一款分析型掃描電子顯微鏡。EVO 18 Research 為您提供優(yōu)異的成像品質(zhì)，具有處理多種材料的能力...

簡要描述：掃描電子顯微鏡SEM標(biāo)配能譜儀和波譜儀(EDSWDC)接口，另有用于高級形貌與化學(xué)分析的全集成式顆粒分析和識別解決方案可供選擇。通過升級LaB6高亮度...

簡要描述：工業(yè)顯微鏡Axiolab 5易于操作且符合人體工程學(xué)的設(shè)計理念，新型進口蔡司工業(yè)電子顯微鏡成為實驗室日常工作的好幫手。只需單手便可操作所有的主要控件，...

簡要描述：關(guān)聯(lián)工業(yè)掃描電子顯微鏡技術(shù)為您提供了集成化的解決方案和無縫銜接的工作流程。選擇蔡司作為光學(xué)顯微鏡、電子顯微鏡、離子束顯微鏡和X射線顯微鏡的供應(yīng)商，并從...

簡要描述：ZEISS掃描電子顯微鏡EVO將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗結(jié)合在一起， 同時能夠吸引經(jīng)驗豐富的用戶以及新用戶。無論是在生命科學(xué)， 材...

簡要描述:景深數(shù)碼電子顯微鏡蔡司公司面向發(fā)布一款智能3D數(shù)碼顯微鏡Smartzoom5，這是一款為工業(yè)質(zhì)量控制領(lǐng)域及研究方向的客戶提供的一項全新解決方案?？蓪?..

簡要描述：X射線顯微鏡：作為Xradia Versa系列中前沿的產(chǎn)品，蔡司顯微鏡在科研和工業(yè)研究領(lǐng)域為您開啟多樣化應(yīng)用的新高度。基于高分辨率和襯度成像技術(shù)，Xr...

簡要描述：原子層蝕刻設(shè)備是一種的蝕刻技術(shù)，可精準(zhǔn)的控制其蝕刻深度。隨著元件尺寸的進一步減小，需要進一步的使用ALE才能達到其所需的精度。

簡要描述：感應(yīng)耦合電漿蝕刻是在標(biāo)準(zhǔn)反應(yīng)離子蝕刻（RIE）的基礎(chǔ)上，添加電感耦合電漿的。感應(yīng)耦合電漿由磁場圍繞石英晶體管所提供。產(chǎn)生的高密度電漿被線圈包圍，將充當(dāng)...

簡要描述：反應(yīng)離子蝕刻設(shè)備機器中可以非常精確地控制其蝕刻輪廓、蝕刻速率和均勻性，并具有重復(fù)性。等向性蝕刻以及非等向性蝕刻都是可能的。

簡要描述：RIE等離子刻蝕機SI 591：預(yù)真空室和計算機控制的等離子體刻蝕工藝條件，使得SI 591 具有優(yōu)異的工藝再現(xiàn)性和等離子體蝕刻工藝靈活性。靈活性、模...

簡要描述等離子蝕刻機Etchlab 200根據(jù)其模塊化設(shè)計，可升級為更大的真空泵組，預(yù)真空室和更多的氣路。

簡要描述：等離子刻蝕機由于離子能量低，離子能量分布帶寬窄，因此可以用我們的等離子體刻蝕機SI 500進行低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)的刻蝕。

簡要描述：深硅刻蝕機三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有...

簡要描述：反應(yīng)離子刻蝕機我們的等離子蝕刻設(shè)備包括用功能強大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口，工藝窗口，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

簡要描述：英國光柵刻蝕三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具...

日本傾斜角RIE等離子蝕刻機的簡介：日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機家族，它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計和直接置片的成本效益設(shè)計的優(yōu)點。Etchlab2...

簡要描述：進口深硅刻蝕：三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它...