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G-CVD石墨烯化學(xué)氣相沉積制備系統(tǒng) (Graphene CVD)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 廈門烯成新材料科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2016/8/10 21:43:22
- 訪問(wèn)次數(shù) 1641
產(chǎn)品標(biāo)簽
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石墨烯(Graphene)自2004年發(fā)現(xiàn)以來(lái),在短短數(shù)年間已經(jīng)成為凝聚態(tài)物理、化學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域研究中倍受矚目的“明星材料”。
化學(xué)氣相沉積(CVD)是目前制備石墨烯的zui有效、也是研究?jī)r(jià)值的方法。搭建一套完整而高效的石墨烯化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)并非易事,即使在系統(tǒng)搭建完成后,要真正制備出單層石墨烯,還需要較長(zhǎng)時(shí)間的參數(shù)優(yōu)化。這往往使得科研人員錯(cuò)過(guò)了*的研究時(shí)機(jī)。
G-CVD石墨烯化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)由廈門烯成新材料科技有限公司與國(guó)內(nèi)*石墨烯研究機(jī)構(gòu)合作開(kāi)發(fā),提供完整的石墨烯生長(zhǎng)系統(tǒng),同時(shí)提供石墨烯轉(zhuǎn)移及測(cè)試的解決方案。G-CVD系統(tǒng)兼容真空及常壓兩種主流的生長(zhǎng)模式,采用計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制,系統(tǒng)內(nèi)置了多種制備石墨烯的生長(zhǎng)參數(shù),用戶只需簡(jiǎn)單操作,就可以輕松的制備出高質(zhì)量的石墨烯。采用該系統(tǒng),可以制備出毫米尺寸的石墨烯大單晶,也可以制備出數(shù)十厘米尺寸的石墨烯連續(xù)薄膜,還能生長(zhǎng)13C同位素石墨烯。將為科研人員提供大量的研究機(jī)會(huì),以及為實(shí)現(xiàn)各種科學(xué)想法創(chuàng)造了條件。
主要特點(diǎn):
兼容真空及常壓兩種主流的生長(zhǎng)模式
G-CVD系統(tǒng)是一套完備的石墨烯制備系統(tǒng),包括硬件和軟件部分。工作在常壓氣氛或真空條件,通過(guò)控制,可以在10-3 Torr ~ 760 Torr之間的任意氣壓下進(jìn)行石墨烯的生長(zhǎng)。既可以生長(zhǎng)出六邊形的石墨烯單晶,也可以生長(zhǎng)出花瓣?duì)畹氖┑膯尉А?/div>
計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制,內(nèi)置多種生長(zhǎng)參數(shù)
整個(gè)石墨烯生長(zhǎng)過(guò)程的重要參數(shù)由計(jì)算機(jī)進(jìn)行精確控制,包括溫度、氣體流量等。控制軟件內(nèi)置多種生長(zhǎng)優(yōu)化參數(shù),用戶僅需將襯底放入樣品腔,即可開(kāi)始生長(zhǎng)。
制備高質(zhì)量石墨烯單晶,單晶尺寸可達(dá)數(shù)毫米
采用特殊優(yōu)化的生長(zhǎng)條件,可以得到尺寸達(dá)數(shù)毫米的單疇單晶。在多晶薄膜方面,可以制備得到數(shù)十厘米尺寸的單層石墨烯薄膜。
生長(zhǎng)13C同位素石墨烯,研究石墨烯生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)過(guò)程
G-CVD系統(tǒng)有13C同位素選項(xiàng),交替生長(zhǎng)不同同位素石墨烯, 用于研究石墨烯生長(zhǎng)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。
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