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PECVD 維意真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備
參考價(jià) | ¥ 230000 |
訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱 北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) PECVD
- 產(chǎn)地 北京大興
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2019/7/29 16:12:05
- 訪問(wèn)次數(shù) 1066
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產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,航天,電氣 |
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維意真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備
PE-CVD結(jié)構(gòu)特點(diǎn)介紹:
1、PECVD系列真空管式高溫?zé)Y(jié)爐如圖所示,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體;
2、爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料,采用進(jìn)口高溫合金電阻絲為加熱元件;
3、高純石英管橫穿于爐體中間作為的爐膛,爐管兩端用不銹鋼法蘭密封,工件式樣在管中加熱,加熱元件與爐管平行,均勻地分布在爐管外,有效的保證了溫場(chǎng)的均勻性;
4、測(cè)溫采用性能穩(wěn)定,長(zhǎng)壽命的“K”型熱電偶,以提高控溫的精準(zhǔn)性;
5、它是專為高等院校﹑科研院所及工礦企業(yè)對(duì)金屬,非金屬及其它化和物材料在氣氛或真空狀態(tài)下進(jìn)行燒結(jié)﹑融化﹑分析而研制的設(shè)備;
6、MPECVD系列真空管式爐能夠快速開(kāi)啟,快速升降溫,方便客戶對(duì)特殊材料的裝載,燒制和觀察;
7、爐體的控制面板配有觸摸屏,控制電源開(kāi)關(guān),配有電源和保險(xiǎn)指示燈,以便隨時(shí)觀察本系統(tǒng)的工作狀態(tài)。
維意真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備
*** 基本功能介紹:
1、輝光放電:在系統(tǒng)低于100Pa啟動(dòng)射頻電源可以實(shí)現(xiàn)輝光放電;
2、加熱:系統(tǒng)可以設(shè)置30段溫控程序,彩屏系統(tǒng)預(yù)存15條燒培曲線,針對(duì)不同的樣品,設(shè)置不同的預(yù)設(shè)曲線,避免重復(fù)設(shè)置;
3、自動(dòng)清洗功能:樣品放入線圈的區(qū)域,配置好參數(shù)(PECVD功能配置),系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)抽真空,并
通入設(shè)置的氣體,自動(dòng)啟動(dòng)輝光放點(diǎn);
4、自動(dòng)cvd功能:樣品放入線圈的區(qū)域,配置好參數(shù)(PECVD功能配置),系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)抽真空,并通入設(shè)置的氣體,自動(dòng)啟動(dòng)輝光放點(diǎn);
5、智能能模式:實(shí)現(xiàn)自動(dòng)清洗和cvd功能,樣品不需移出,清洗cvd功能一鍵完成,并能實(shí)現(xiàn)多次的循環(huán)操作;
6、通氣時(shí)間可以設(shè)定:通過(guò)界面設(shè)置通氣時(shí)間,時(shí)間到后,系統(tǒng)自動(dòng)停止流量計(jì),達(dá)到節(jié)能環(huán)保的目的;
7、恒定真空控制:系統(tǒng)設(shè)置一個(gè)真空度的數(shù)值(見(jiàn)參數(shù)“真空設(shè)定值”),配合手動(dòng)閥和真空泵,系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)真空的恒定;
8、系統(tǒng)微正壓控制:系統(tǒng)設(shè)置一個(gè)正壓值(見(jiàn)參數(shù)“真空設(shè)定值”),并配置好相應(yīng)的氣路,配合手動(dòng)放氣閥,可以實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)微正壓的恒定;
9、系統(tǒng)正壓保護(hù)功能:當(dāng)因?yàn)檎`操作或者其他原因,系統(tǒng)壓力超過(guò)保護(hù)值時(shí)(見(jiàn)參數(shù)“放氣閥開(kāi)啟壓力”),系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)關(guān)閉進(jìn)氣,保護(hù)設(shè)備;
10、加熱爐膛移動(dòng)的速度可以調(diào)節(jié)。
該系列PECVD系統(tǒng)具有固態(tài)等離子源、分開(kāi)式反應(yīng)氣體進(jìn)氣系統(tǒng),動(dòng)態(tài)襯底溫控,全面控制真空系統(tǒng),采用集中現(xiàn)場(chǎng)控制總線技術(shù)的“值守精靈”控制軟件,以及友好用戶操作界面來(lái)操作。適用于室溫至1400℃條件下進(jìn)行的SiO2、SiNx,、?SiONx?a-Si薄膜的沉積,同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積,SiC膜層沉積以及液態(tài)或氣態(tài)源沉積其它材料,尤其適合于有機(jī)材料上高效保護(hù)層膜和特定溫度下無(wú)損傷鈍化膜的沉積。?
*** 主要特點(diǎn):
??清洗鍍膜一氣呵成,杜絕二次污染;
??上開(kāi)啟結(jié)構(gòu),式樣觀察方便;
??觸屏人機(jī)對(duì)話整體性操作,安全可靠;;
??產(chǎn)品采用全自動(dòng)控制方式,觸摸屏,數(shù)字化顯示。
??真空系統(tǒng)、工作壓強(qiáng)、電源系統(tǒng)及自動(dòng)匹配、工藝氣體流量、加熱系統(tǒng)、運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、工藝過(guò)程、系統(tǒng)監(jiān)控及數(shù)據(jù)采集等