TF1200 PECVD等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

產(chǎn)品名稱：PECVD等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：TF1200
PECVD等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)TF1200特征描述: 
此款設(shè)備配有Plasma實現(xiàn)等離子增強，滑軌式設(shè)計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調(diào)裝置，可準(zhǔn)確的控制反應(yīng)腔體內(nèi)部的氣體壓力，帶刻度的調(diào)節(jié)閥對于做低壓CVD非常簡單實用，工藝重復(fù)性好，對于石墨烯生長工藝非常合適，也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。
TF1200主要功能和特點：
1、利用輝光放電產(chǎn)生等離子體電子激活氣相；
2、提高了氣相反應(yīng)的沉積速率、成膜質(zhì)量；
3、可通過調(diào)整射頻電源頻率來控制沉積速率；
4、能廣泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。
TF1200:
1、實驗中心：提供免費實驗服務(wù)（特殊材料實驗除外），幫助客戶了解電爐設(shè)備及實驗物品的性能等參數(shù)。(新用戶限免費實驗1次，老用戶*)。
2、技術(shù)咨詢：免費為客戶提供電爐設(shè)備與實驗材料相關(guān)的技術(shù)咨詢、常規(guī)技術(shù)服務(wù)等，設(shè)備配件更換，僅收成本費。
3、非標(biāo)訂制：可根據(jù)實際客戶需要訂制爐膛尺寸，配置相應(yīng)的對應(yīng)規(guī)格配件。