TF1200-PECVD TF1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)

設備特點

1、利用輝光放電產生等離子體電子激活氣相；

2、提高了氣相反應的沉積速率、成膜質量；

3、可通過調整射頻電源頻率來控制沉積速率；

4、能廣泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。

開啟式真空管式爐

石英管：  Φ60/80/100mm L1400mm

加熱區(qū)尺寸：440mm

恒溫區(qū)尺寸：200mm

控溫模式： 采用人工智能調節(jié)技術，具有PID調節(jié)、自整定功能，并可編制30段升降溫程序。

升溫速率： ≤20℃min

極限溫度： ≤1200℃

長時間工作溫度：≤1150℃

表面溫度： < 60℃（1000℃保溫）

控溫精度： ±1℃

加熱元件： 電阻絲（0Cr27Al7Mo2）

密封及連接方式：CF  KF  真空波紋管

質量混氣系統(tǒng)：流量規(guī)格50sccm100sccm200sccm300sccm500sccm(可自選量程)

調節(jié)閥類型：電磁調節(jié)閥

控制精度： ±0.2%F.S

工作壓差范圍：（50～300）KPa

混氣罐尺寸：Φ80×120mm

電功率： AC220V/50HZ/20W

真空系統(tǒng)參數(shù)

低真空配置：4L/S 機械泵  電阻真空計 真空波紋管 擋板閥

極限真空度：≤0.1Pa

 高真空配置：4L/S 機械泵  300L/S分子泵 復合真空計 真空波紋管 擋板閥 

極限真空度：≤1.3×10-4Pa

射頻電源系統(tǒng)

輸出功率： 5-300W   5-500W  (可選)

控制模式: 手動/PLC/PC

工作頻率: 13.56MHZ標準正弦波

供電電壓: 單相交流（190V～240V）

冷卻方式: 風冷

設備外形尺寸: 1800mm（長）*600mm（寬）*1390mm（高）

設備重量: 215KG

服務保障

質量：產品的制造和檢測嚴格按相關標準執(zhí)行，并有質量記錄可查；每臺設備都有制造編號，并建立用戶檔案。

交貨期：按合同約定執(zhí)行；如客戶有特殊原因需提前交貨的，我公司可特別組織生產，力爭滿足用戶需求。

售   后

1、物流送貨上門（不包含卸貨）。

2、高效率服務：當設備不能正常使用時，請及時聯(lián)系我們，我們會在10分鐘內響應；2小時內提供應急解決方案；24小時內安排專業(yè)人員上門服務；

3、免費更換維修服務：本產品提供一年免費保修服務（易損件除外）；

4、定期回訪服務：提供定期電話回訪或上門回訪服務；

5、免費更新服務：我們免費提供軟件的升級更新服務；

6、保證配件供應：保證設備配件及配套產品的供應；