Activator150 SiC和GaN退火及石墨烯生長-快速退火爐

Centrotherm 小批暈生產用垂直爐管CLV200,科研專屬

CLV200 小批暈生產用垂直爐管

I 適用于砫襯底的半導體集成電路的生產

是一個獨立的小批量晶圓 生產設備，能實現(xiàn)各項熱處理工藝，適用于少量生產及 研發(fā)。

工藝反應 腔體及加熱系統(tǒng)有著*的設計， 升溫至 11 00 攝氏度。由于一爐尺寸較?。ㄒ慌炼?50 片晶圓）， CLV 200 爐管能提供 非常靈活的常壓及低壓工藝，降低顧客研發(fā)費用。

的設計在高效， 低耗上非常出色， 同時也具備了生產各種半導體器件的工藝靈活性。

E1200臥式熱反應系統(tǒng)

• 產品簡介

E1200型臥式熱反應系統(tǒng)是由德國centrotherm公司研制的特為研發(fā)、小批量生產用熱反應系統(tǒng)。具有小體積、高工藝性能等特點

可用作常壓CVD、LPCVD、PECVD、擴散、氧化、退火等工藝過程，以優(yōu)良的品質、極小的體積、低成本的特點，特別適合低產量、多工藝適應性加工要求的研發(fā)或小批量生產。