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非標(biāo)定制 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 PECVD

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鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司(簡(jiǎn)稱:鵬城半導(dǎo)體),由哈爾濱工業(yè)大學(xué)(深圳)與有多年實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的工程師團(tuán)隊(duì)共同發(fā)起創(chuàng)建。公司立足于技術(shù)前沿與市場(chǎng)前沿的交叉點(diǎn),尋求創(chuàng)新yin/ling與可持續(xù)發(fā)展,解決產(chǎn)業(yè)的痛點(diǎn)和國(guó)產(chǎn)化難題,爭(zhēng)取產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控。


公司核心業(yè)務(wù)是微納技術(shù)與gao duan精密制造,具體應(yīng)用領(lǐng)域包括半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體工藝和半導(dǎo)體裝備的研發(fā)設(shè)計(jì)和生產(chǎn)制造。


公司人才團(tuán)隊(duì)知識(shí)結(jié)構(gòu)完整,有以哈工大教授和博士為核心的高水平材料研究和工藝研究團(tuán)隊(duì);還有來(lái)自工業(yè)界的高級(jí)裝備設(shè)計(jì)師團(tuán)隊(duì),他們具有20多年的半導(dǎo)體材料研究、外延技術(shù)研究和半導(dǎo)體薄膜制備成套裝備設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造的經(jīng)驗(yàn)。


公司依托于哈爾濱工業(yè)大學(xué)(深圳),具備*的半導(dǎo)體研發(fā)設(shè)備平臺(tái)和檢測(cè)設(shè)備平臺(tái),可以在高起點(diǎn)開(kāi)展科研工作。公司總部位于深圳市,具備半導(dǎo)體裝備的研發(fā)、生產(chǎn)、調(diào)試以及半導(dǎo)體材料與器件的中試、生產(chǎn)、銷售的能力。




半導(dǎo)體材料,工藝和裝備的研發(fā)設(shè)計(jì),生產(chǎn)制造

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 PECVD主要用于在潔凈真空環(huán)境下進(jìn)行氮化硅和氧化硅的薄膜生長(zhǎng);采用單頻或雙頻等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù),是沉積高質(zhì)量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工藝設(shè)備。

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 PECVD

設(shè)備用途和功能特點(diǎn)

1、該設(shè)備是高真空單頻或雙頻等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD薄膜設(shè)備,主要用于制備氮化硅和氧化硅薄膜。

2、設(shè)備保護(hù)功能強(qiáng),具備真空系統(tǒng)檢測(cè)與保護(hù)、水壓檢測(cè)與保護(hù)、相序檢測(cè)與保護(hù)、溫度檢測(cè)與保護(hù)。

3、配置尾氣處理裝置。

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 PECVD

設(shè)備安全性設(shè)計(jì)

1、電力系統(tǒng)的檢測(cè)與保護(hù)

2、設(shè)置真空檢測(cè)與報(bào)警保護(hù)功能

3、溫度檢測(cè)與報(bào)警保護(hù)

4、冷卻循環(huán)水系統(tǒng)的壓力檢測(cè)和流量檢測(cè)與報(bào)警保護(hù)


設(shè)備技術(shù)指標(biāo)

類型參數(shù)
樣片尺寸≤φ8英寸(或3片2英寸)
樣片加熱臺(tái)加熱溫度室溫~ 600℃±0.1℃
真空室極限真空≤7×10-5Pa
工作背景真空≤8×10-4Pa
設(shè)備總體漏放率停泵12小時(shí)后,真空度≤10Pa
樣品、電極間距5mm ~ 50mm在線可調(diào)
工作控制壓強(qiáng)10Pa ~ 1500Pa
氣體控制回路根據(jù)工藝要求配置
單頻電源的頻率13.56MHz
雙頻電源的頻率13.56MHz/400KHz


工作條件

類型參數(shù)
供電三相五線制 AC 380V
工作環(huán)境溫度10℃~ 40℃
氣體閥門供氣壓力0.5MPa ~ 0.7MPa
質(zhì)量流量控制器輸入壓力0.05MPa ~ 0.2MPa
冷卻水循環(huán)量0.6m3/h 水溫18℃~ 25℃
設(shè)備總功率7kW
設(shè)備占地面積2.0m ~ 2.0m


等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 PECVD及太陽(yáng)能薄膜電池設(shè)備


1-3-6-3-2-7-5-0-0-1-7





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