M+4500 狹縫式涂布機(jī)

  狹縫式涂布機(jī)是一種用于在表面上涂布薄膜、涂料或液體材料的設(shè)備。它通常由一個(gè)具有狹縫形狀的噴嘴或涂布頭部組成，通過(guò)控制狹縫的寬度和涂布材料的流量來(lái)實(shí)現(xiàn)精確的涂布過(guò)程。這種涂布機(jī)在工業(yè)生產(chǎn)中廣泛應(yīng)用，特別是在印刷、涂裝、電子制造和其他需要精密涂布的領(lǐng)域。狹縫式涂布機(jī)的工作原理是將涂布材料通過(guò)泵送或噴射系統(tǒng)輸送至狹縫噴嘴，然后通過(guò)調(diào)節(jié)狹縫的寬度和涂布速度來(lái)控制涂布厚度。這種精確的控制使得狹縫式涂布機(jī)非常適合需要高質(zhì)量、均勻涂布的應(yīng)用。這種涂布技術(shù)常用于制造平板顯示器、光伏電池、柔性電子設(shè)備等高科技產(chǎn)品的生產(chǎn)過(guò)程中。狹縫式涂布機(jī)的優(yōu)勢(shì)包括高精度、高效率、節(jié)省材料和可在各種基材上實(shí)現(xiàn)均勻涂布?？偟膩?lái)說(shuō)，狹縫式涂布機(jī)在現(xiàn)代工業(yè)中扮演著重要的角色，為許多領(lǐng)域提供了精確、可控的涂布解決方案。

 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，狹縫式涂布技術(shù)有著重要的應(yīng)用，特別是在制備薄膜和涂覆材料的過(guò)程中。以下是一些狹縫式涂布在半導(dǎo)體行業(yè)中的主要應(yīng)用：

光刻膠涂覆： 在半導(dǎo)體制造中，光刻是一項(xiàng)關(guān)鍵的工藝，用于定義芯片上的圖形和結(jié)構(gòu)。狹縫式涂布機(jī)常用于涂覆光刻膠在硅片表面，確保光刻膠均勻覆蓋并形成一致的薄膜。這是為了保證后續(xù)曝光、顯影等步驟能夠準(zhǔn)確地傳遞芯片設(shè)計(jì)的圖案。

化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）涂覆： CMP是半導(dǎo)體工藝中用于平坦化硅片表面的關(guān)鍵步驟。在CMP涂覆中，狹縫式涂布機(jī)可用于將腐蝕液體（slurry）均勻涂布在硅片表面，以便在拋光過(guò)程中實(shí)現(xiàn)材料的均勻去除，從而獲得平整的表面。

薄膜涂布： 制造半導(dǎo)體器件通常涉及在硅片上涂覆不同的薄膜層，例如氧化物、金屬薄膜等。狹縫式涂布機(jī)可確保這些薄膜在硅片表面均勻分布，從而提高器件的性能和可靠性。

電介質(zhì)涂布： 在半導(dǎo)體器件中，電介質(zhì)層通常用于隔離不同電路元件或作為絕緣材料。狹縫式涂布機(jī)可以精確地涂布這些電介質(zhì)材料，確保其厚度和均勻性，從而維持器件的電學(xué)性能。

 總的來(lái)說(shuō)，狹縫式涂布技術(shù)在半導(dǎo)體制造中扮演著關(guān)鍵的角色，為各種工藝步驟提供了高精度和均勻性的涂覆解決方案，從而確保半導(dǎo)體器件的質(zhì)量和性能。

一、產(chǎn)品使用范圍：

• 彎月牙涂膠基板尺寸：1400 mm×420 mm×200 mm)；

• 液體膠刀的有效尺寸為：420mm：

二、設(shè)備概述：此膠狹縫系統(tǒng)包括供膠系統(tǒng)、精密膠刀、平面度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、膠盒移動(dòng)等部件組成。

• 供膠系統(tǒng)：伺服電機(jī)帶動(dòng)磁力泵供給膠刀，回流過(guò)濾循環(huán)供給，膠泵采購(gòu)進(jìn)口壓力流量可調(diào)的磁力泵。

•  精密膠刀：膠刀出液狹縫可調(diào)，可適應(yīng)100CP-200CP的光阻藥液。同時(shí)出液的高度（0.15-0.25mm）通過(guò)調(diào)整泵的供壓力及狹縫配合來(lái)調(diào)

• 面度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)：膠刀與膠盒的平行度可通過(guò)膠盒內(nèi)的螺釘進(jìn)行調(diào)平，膠刀與連接平面也可調(diào)整，膠刀與基板的平面通過(guò)機(jī)械方式也可調(diào)整。

• 利用電磁閥及氣缸來(lái)實(shí)現(xiàn)膠盒蓋的上下、左右方向的移動(dòng)。 三、設(shè)備控制設(shè)計(jì)：

• 供泵系統(tǒng)膠泵為伺服電機(jī)，膠泵的壓力、流速通過(guò)調(diào)節(jié)電機(jī)的轉(zhuǎn)速控制。

•  膠盒蓋通過(guò)氣缸控制+電磁閥（氣缸都裝有上下，左右位置檢測(cè)傳感器）。

•  基板移動(dòng)加有接近開(kāi)關(guān)（主要用于檢測(cè)基板是否移過(guò)）。

芯片無(wú)塵室的超凈服介紹

在勻膠顯影設(shè)備凈化間，工作人員通常需要穿著超凈服以確保產(chǎn)品的質(zhì)量和純度，保證實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的精確。這種服裝的設(shè)計(jì)主要是為了防止工作人員的身體表面或呼出的空氣對(duì)微型電子元件的制造環(huán)境產(chǎn)生污染。超凈服通常被稱(chēng)為Cleanroom Suit"或者"Bunny Suit"，做半導(dǎo)體制造的小伙伴應(yīng)該對(duì)超凈服比較熟悉，但是你確定自己懂它嗎?

超凈服的歷史——超凈服，是由英特爾Fab工廠提出，其歷史可以追溯到1968年。當(dāng)時(shí)的芯片無(wú)塵室內(nèi)工作人員穿著自己的衣物，并且環(huán)境并非無(wú)菌的。甚至有人會(huì)把比薩餅放在擴(kuò)散爐上烘烤加熱。到了1971年，Intel的Fab 2工廠要求員工穿著專(zhuān)用罩衣，但不需要頭套或護(hù)腿。員工可以把它們帶回家洗，這種做法在常規(guī)清潔度上可能足夠，但卻無(wú)法防止小顆粒污染微芯片。更嚴(yán)格的清潔服裝協(xié)議始于1973年，Intel的Fab3工廠普及了我們目前熟悉的現(xiàn)代超凈服，并在1980年成為Intel公司的標(biāo)準(zhǔn)，隨后流行開(kāi)來(lái)。

超凈服的材質(zhì)——常見(jiàn)材質(zhì)為聚酯。超凈服所用的聚酯材料是一種常見(jiàn)的聚合物，主要由聚酯纖維制成。聚酯是一種大分子聚合物，由酯基連接的單體重復(fù)單元組成。酯基是一個(gè)化學(xué)功能團(tuán)，由一個(gè)羰基(C=O)和一個(gè)氧原子(-0-)組成，形式為 -C00-。聚酯是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)。

以下是聚酯材料的一些主要特性:

1.耐磨:聚酯是一種非常耐磨的材料，其強(qiáng)度比自然纖維高。

2.耐化學(xué)品:聚酯對(duì)大多數(shù)常見(jiàn)的工業(yè)化學(xué)品具有很好的抵抗力，包括酸，堿和有機(jī)溶劑。這使得它在需要接觸化學(xué)品的環(huán)境中非常有用。

3.易洗:聚酯纖維的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是它易于清洗，可以在機(jī)器中洗滌，且不易皺。此外，它可以在高溫下清洗，這對(duì)于保持超凈服的潔凈至關(guān)重要。

4.防靜電:聚酯本身可能會(huì)產(chǎn)生靜電，但是超凈服的聚酯材料通常會(huì)摻入防靜電纖維或者涂覆有防靜電劑，以降低靜電積累。超凈服的靜電如何導(dǎo)走的?

超凈服防止靜電積聚的一種重要方式是通過(guò)地面接地系統(tǒng)，將人體產(chǎn)生的靜電導(dǎo)入大地。在勻膠顯影設(shè)備生產(chǎn)車(chē)間，員工通常需要穿戴特別的防靜電鞋或鞋套。這些鞋子或鞋套是由導(dǎo)電材料制成的，可以將人體產(chǎn)生的靜電從人體導(dǎo)入到地面。#凈化間的勻膠顯影設(shè)備#半自動(dòng)勻膠機(jī)#勻膠顯影工藝#愛(ài)姆加半導(dǎo)體設(shè)備