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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>電子束曝光機(jī)>pharos310 電子束曝光系統(tǒng)

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pharos310 電子束曝光系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京中科復(fù)華科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 pharos310
  • 產(chǎn)地 北京市西三旗
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2024/4/2 16:42:01
  • 訪問次數(shù) 159

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北京中科復(fù)華科技有限公司是一家致力于為半導(dǎo)體領(lǐng)域和微納米科學(xué)領(lǐng)域提供綜合性解決方案,為全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導(dǎo)體設(shè)備儀器和微納米科學(xué)儀器,擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)過硬的技術(shù)團(tuán)隊。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務(wù)。   未來公司將不斷和引進(jìn)在微納米科學(xué)領(lǐng)域中起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品,同時也與全國各所的大學(xué)、學(xué)院和科研院所建立了良好的合作關(guān)系,致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作, 為中國的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務(wù)。 

納米圖形發(fā)生器,離子束刻蝕/反應(yīng)離子刻蝕/感應(yīng)耦合等離子刻蝕 磁控濺射/氣相沉積/電子束蒸發(fā)鍍膜、ALD/MBE/MOCVD 光刻機(jī)、去膠設(shè)備等

加速電壓:30Ke可選50Ke

電子束束流:10PA-200nA

單場尺寸:500μmX500μm

樣品臺:4英寸

樣品臺:采用激光干涉定位

樣品臺移動范圍:100mm

最細(xì)線條:30nm

拼接精度:50nm

套刻精度:50nm

中國的電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)市場目前正處于快速發(fā)展的階段,技術(shù)不斷進(jìn)步,產(chǎn)品創(chuàng)新不斷增加。近年來,電子束曝光系統(tǒng)的應(yīng)用領(lǐng)域也發(fā)生了很大變化,在工業(yè)制造、半導(dǎo)體制造、印刷包裝等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。
隨著技術(shù)的進(jìn)步,電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)市場的競爭格局也開始發(fā)生變化。中國電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)市場的競爭格局主要集中于幾個方面。企業(yè)間的競爭日趨激烈,各大廠商均在加強技術(shù)研發(fā)、品牌宣傳等方面進(jìn)行競爭。在產(chǎn)品質(zhì)量方面,各大廠商也競相投入,以提升產(chǎn)品的抗腐蝕性、精度、可靠性等性能。再次,在價格方面,各大廠商也在不斷努力,以提升電子束曝光系統(tǒng)的性價比,吸引更多的消費者。




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