官方微信|手機(jī)版

產(chǎn)品展廳

產(chǎn)品求購(gòu)企業(yè)資訊會(huì)展

發(fā)布詢價(jià)單

化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>無掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)> 無掩膜激光直寫光刻機(jī)-MicroWriter ML3

分享
舉報(bào) 評(píng)價(jià)

無掩膜激光直寫光刻機(jī)-MicroWriter ML3

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


昱臣半導(dǎo)體技術(shù)(香港)有限公司是專業(yè)的半導(dǎo)體及微電子領(lǐng)域儀器設(shè)備供應(yīng)商,昱臣半導(dǎo)體技術(shù)(香港)有限公司所代理的儀器設(shè)備廣泛用于高校、研究所、半導(dǎo)體企業(yè)。

昱臣半導(dǎo)體技術(shù)(香港)有限公司目前代理的主要產(chǎn)品包括:

- 霍爾效應(yīng)測(cè)試儀(Hall Effect Measurement System);

- 快速退火爐(RTP);

- 回流焊爐,真空燒結(jié)爐(Reflow Solder System);

- 探針臺(tái)(Probe Station),低溫探針臺(tái)(Cryogenic Probe Station);

- 貼片機(jī)(Die Bonder),劃片機(jī)(Scriber),球焊機(jī)/鍥焊機(jī)(Wire Bonder);

- 原子層沉積系統(tǒng)(ALD),等離子增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備(PEALD);

- 磁控濺射鍍膜機(jī)(Sputter),電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)(E-beam Evaporator),熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)(Thermal Evaporator),脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD) ;

- 低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(LPCVD),等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),快速熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(RTCVD);

- 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE),ICP刻蝕機(jī),等離子體刻蝕機(jī);

- 致冷機(jī)/低溫恒溫器(Cryostat/Cryocooler);

- 加熱臺(tái)、熱板、烤膠臺(tái) (Hot Chuck / Hot Plate);

- 掃描開爾文探針系統(tǒng)(Kelvin Probe),光反射膜厚儀(Reflectometer);

- 高溫超導(dǎo)磁體(HTS Magnet),快速場(chǎng)循環(huán)核磁共振弛豫測(cè)試儀(FFC Reflexometer);






原子層沉積系統(tǒng),快速退火爐,PECVD,刻蝕機(jī)

小型臺(tái)式無掩膜光刻機(jī)- MA1200


小型臺(tái)式無掩膜光刻機(jī)- MicroWriter ML3是英國(guó)公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā),為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板的方法,克服了這一問題。與通過物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān),在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

MA1200 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm),無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì),全自動(dòng)控制,可靠性高,操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。       

                                ML3-1.jpg         

                                                      

 產(chǎn)品特點(diǎn) 

Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能
Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè),并通過Z向調(diào)整和補(bǔ)償,以保證曝光分辨率。

光學(xué)輪廓儀
MicroWriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向高精度100 nm,方便快捷。

focuslock.png

Profiometer.png

標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別
點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后,將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。

直寫前預(yù)檢查
軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面,并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過實(shí)時(shí)調(diào)整位置、角度,直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫準(zhǔn)確。

Bullseye.png

VMA.png

簡(jiǎn)單的直寫軟件
MicroWriter 由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。

Clewin 掩膜圖形設(shè)計(jì)軟件
●  可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
●  可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
●  書寫范圍只由基片尺寸決定

software.png

clewin.jpg




化工儀器網(wǎng)

采購(gòu)商登錄
記住賬號(hào)    找回密碼
沒有賬號(hào)?免費(fèi)注冊(cè)

提示

×

*您想獲取產(chǎn)品的資料:

以上可多選,勾選其他,可自行輸入要求

個(gè)人信息:

溫馨提示

該企業(yè)已關(guān)閉在線交流功能