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反應(yīng)離子刻蝕機(jī)系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)???????RIE600W是一款進(jìn)口等離子體反應(yīng)離子蝕刻機(jī),用于各向同性蝕刻,蝕刻氧化物、氮化物、聚合物等薄膜。
型號： FPTOR-RIE... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)反應(yīng)離子刻蝕離子蝕刻機(jī)離子蝕刻等離子體刻蝕

2024/12/20 14:33:05783
感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
???????感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)ICPRIE由射頻電源感應(yīng)產(chǎn)生等離子體,以產(chǎn)生各向異性蝕刻。在基本ICP-RIE蝕刻系統(tǒng)中，射頻直接連接到用作電極的樣品臺(tái)...
型號： FPTOR-ICP... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

離子刻蝕離子刻蝕系統(tǒng)感應(yīng)耦各向異性刻蝕ICP-RIE

2024/12/20 12:40:52600
等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)采用*大的腔室和等離子ALD模塊,獲得**的原子層沉積效果。
型號： FPCTE-Pla... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

原子層沉積原子層沉積系統(tǒng)等離子體增強(qiáng)ALD

2024/12/20 11:44:571132
ALD系統(tǒng),原子層沉積設(shè)備參考價(jià)：面議
ALD系統(tǒng)AT410提供了用于3D樣品制備的共形導(dǎo)電薄膜解決方案，同時(shí)還提供了目前使用濺射/蒸發(fā)生長的傳統(tǒng)2D涂層。
型號： FPANR-AT4... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

ALD系統(tǒng)ALD原子層沉積原子層沉積設(shè)備PVD薄膜

2024/12/20 11:07:11517
電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是為等離子化學(xué)蝕刻系統(tǒng)應(yīng)用設(shè)計(jì)的反應(yīng)離子蝕刻RIE和ICPCVD系統(tǒng),將反應(yīng)離子刻蝕RIE和電感耦合等離子體刻蝕ICP兩種等離子...
型號： FPSEM-icp... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)化學(xué)氣相沉積反應(yīng)離子蝕刻電感耦合等離子體等離子體刻蝕

2024/12/16 11:35:37736
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：1000000
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是采用PECVD技術(shù)專業(yè)為介質(zhì)膜鍍膜設(shè)計(jì)的化學(xué)氣相沉積設(shè)備。
型號： FPSEM-ICP... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)等離子體化學(xué)氣相沉積PECVD化學(xué)氣相沉積等離子體增強(qiáng)

2024/12/16 11:31:10801
COVAP物理氣相沉積系統(tǒng),PVD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
COVAP物理氣相沉積系統(tǒng)為許多工藝應(yīng)用提供緊湊、經(jīng)濟(jì)、但仍然穩(wěn)健的PVD解決方案。
型號： FPANG-COV... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

物理氣相沉積系統(tǒng)物理氣相沉積氣相沉積系統(tǒng)COVAPPVD

2024/12/16 11:03:36556
離子束沉積系統(tǒng),離子shu沉積濺射鍍膜參考價(jià)：面議
離子束沉積系統(tǒng)IBD采用真空沉積工藝，使用直接聚焦在濺射靶上的寬束離子源實(shí)現(xiàn)離子束沉積濺射鍍膜。然后，來自靶材的濺射材料沉積在附近的襯底上形成薄膜。
型號： FPTOR-IBD 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

離子束沉積系統(tǒng)離子束沉積濺射鍍膜離子束沉積離子束沉積鍍膜濺射鍍膜

2024/12/16 10:50:22670
電子束蒸發(fā)系統(tǒng),EB-4P電子shu沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：800000
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P也是電子束沉積系統(tǒng),有四個(gè)容量不同的袖珍坩堝和各種電源,可以添加熱阻源或直流和射頻濺射或蝕刻。
型號： FPTOR-EB-... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

電子束蒸發(fā)系統(tǒng)電子束蒸發(fā)電子束沉積系統(tǒng)電子束沉積沉積系統(tǒng)

2024/12/16 10:47:10733
超高真空激光分子束外延團(tuán)簇系統(tǒng) 參考價(jià)：1500000
超高真空激光分子束外延團(tuán)簇系統(tǒng) laser cluster將不同的薄膜和分析技術(shù)結(jié)合成一個(gè)強(qiáng)大的系統(tǒng)。***多可將七個(gè)單獨(dú)的腔室連接到中央傳輸模塊，從而在超高真...
型號： FPSUR-Las... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

分子束外延分子束外延系統(tǒng)分子束外延團(tuán)簇團(tuán)簇團(tuán)簇系統(tǒng)

2024/12/16 9:14:3361
XWS寬帶等離子體光源參考價(jià)：面議
這款寬帶等離子體光源XWS是激光泵浦等離子體超亮度光源,輸出光譜范圍180nm ~2500nm,輸出光功率高達(dá)40W,可替代傳統(tǒng)氣體放電光源（如氙燈、氘燈、鎢燈...
型號： FPIST-XWS... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

寬帶等離子體光源等離子體光源超亮度光源激光泵浦等離子體寬帶光源

2024/11/7 11:28:41676
等離子體芯片開封機(jī) 參考價(jià)：面議
這款等離子體芯片開封機(jī)利用大氣微波等離子體針產(chǎn)生的氧氣等離子體分解IC封裝模塑實(shí)現(xiàn)IC封裝脫封和開帽。
型號： FPNIP-MP1... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

芯片開封機(jī)等離子體開封機(jī)IC脫封IC開帽IC封裝

2024/8/24 16:58:101089
離子體灰化蝕刻系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
等離子體灰化蝕刻系統(tǒng)e3600采用zuixin的光刻膠去除技術(shù),為去除晶圓光刻膠提供高效方案?？梢栽诓桓淖冇布那闆r下同時(shí)處理不同尺寸的晶圓。
型號： FPESI-E36... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

離子體灰化等離子體蝕刻晶圓去膠光刻膠去除

2024/4/25 10:10:07306
矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀校準(zhǔn)器,VNA自動(dòng)校準(zhǔn)儀參考價(jià)：面議
該矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀校準(zhǔn)器模塊通過USB或5.5 DC連接器通電，并通過USB或LAN與VNA進(jìn)行通信，通過一個(gè)啟動(dòng)按鈕，可通過VNA的四端口校準(zhǔn)完成一個(gè)端口。
型號： FPWAV-VNA 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀校準(zhǔn)VNA校準(zhǔn)儀VNA校準(zhǔn)矢量分析儀

2022/10/7 16:11:58575
高級等離子體表面處理系統(tǒng),表面活化增強(qiáng) 參考價(jià)：面議
高級等離子體表面處理系統(tǒng)NEBULA是為器件等離子體處理設(shè)計(jì)的大型等離子體處理機(jī)器,離子體表面處理系統(tǒng)NEBULA用于等離子體清潔、附著力改善,等離子體表面活化...
型號： FPPRI-NEB... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對比

等離子體表面處理等離子體處理離子體處理機(jī)等離子體清潔表面活化增強(qiáng)

2022/10/5 14:27:50632

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