電子束蝕刻機,電子束光刻機是納米級刻蝕機，非常適合納米技術和芯片的制造研發(fā)。
電子束蝕刻機,電子束光刻機特點
*化設計和組件，以減少日常服務需求。
實現(xiàn)每年少于5%的機器故障停機時間。
提高性能,促進批量生產。
電子束蝕刻機,電子束光刻機規(guī)格參數(shù)
射束電壓范圍20kV-100kV
光膠上的特征尺寸<8nm
500um場的縫合/重疊誤差<25nm
自動加載5卡盤氣鎖系統(tǒng)

電子束蝕刻機,電子束光刻機是納米級刻蝕機，非常適合納米技術和芯片的制造研發(fā)。
電子束蝕刻機,電子束光刻機特點
*化設計和組件，以減少日常服務需求。
實現(xiàn)每年少于5%的機器故障停機時間。
提高性能,促進批量生產。
電子束蝕刻機,電子束光刻機規(guī)格參數(shù)
射束電壓范圍20kV-100kV
光膠上的特征尺寸<8nm
500um場的縫合/重疊誤差<25nm
自動加載5卡盤氣鎖系統(tǒng)