光纖端面檢測(cè)儀顯微鏡 參考價(jià)：面議
光纖端面檢測(cè)儀顯微鏡SpecVision™ 是光纖檢測(cè)視頻顯微鏡和光纖端面成像檢查儀器，可直接與Krell拋光機(jī)配合使用，可以在連接器或裸光纖仍裝載...
電子束蝕刻機(jī) 參考價(jià)：面議
電子束蝕刻機(jī),電子束光刻機(jī)是納米級(jí)刻蝕機(jī)，非常適合納米技術(shù)和芯片的制造研發(fā)。
掃描開爾文探針系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
大面積掃描開爾文探針系統(tǒng)能夠在垂直方向移動(dòng)開爾文探針實(shí)現(xiàn)電動(dòng)控制開爾文探針與樣品的距離。 樣品安裝到真空吸盤上，真空吸盤可帶著樣品移動(dòng)150x150mm位移，從...
磁控濺射物理氣相沉積PVD系統(tǒng) 參考價(jià)：800000
磁控濺射物理氣相沉積是多功能高壓PVD系統(tǒng),用于磁控濺射和多組分薄膜的熱蒸發(fā)，用于批量晶圓物理氣相沉積加工.磁控濺射物理氣相沉積可在加熱至700℃的晶圓上濺射多...
晶圓真空氧化退火熱處理系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
這款半導(dǎo)體晶圓熱處理系統(tǒng)是為半導(dǎo)體晶圓在可控氣體、真空、氧化或還原氣氛中的晶圓高溫處理系統(tǒng)，可對(duì)晶圓真空退火，氧氣退火處理。 鋁室的特殊設(shè)計(jì)允許在*溫度（高達(dá)1...
磁控濺射沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：800000
磁控濺射系統(tǒng)MagSput™是下一代磁控濺射沉積系統(tǒng)，實(shí)用性腔,可擴(kuò)展性高,且高度可靠,非常適合磁控濺射鍍膜科學(xué)研究。磁控濺射系統(tǒng)可定制。該腔室可設(shè)...
電子束-電阻熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
電子束-電阻熱蒸發(fā)復(fù)合鍍膜系統(tǒng)集合了電子束沉積鍍膜和電阻式熱蒸發(fā)鍍膜沉積功能。電拋光不銹鋼腔室（D形盒）
III族氮化物分子束外延系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
這款I(lǐng)II族氮化物分子束外延系統(tǒng)專業(yè)為A3N材料生長(zhǎng)設(shè)計(jì)的MBE設(shè)備,適合氨氣高溫下制備生長(zhǎng)A3N半導(dǎo)體材料,提供非常廣泛的可用生長(zhǎng)參數(shù)（有效氮通量、襯底溫度、...
三腔室分子束外延MBE系統(tǒng) 參考價(jià)：950000
三腔室分子束外延系統(tǒng)是帶有三個(gè)MBE分子束外延生長(zhǎng)腔室的異質(zhì)結(jié)材料MBE生長(zhǎng)設(shè)備,可用于在高達(dá)∅100mm的襯底上以及三個(gè)2英寸以上襯底上一次精確生...
混合異質(zhì)結(jié)構(gòu)分子束外延系統(tǒng)MBE 參考價(jià)：1200000
混合異質(zhì)結(jié)構(gòu)分子束外延系統(tǒng)具有雙反應(yīng)器,非常適合А3В5和А2В6異質(zhì)結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)應(yīng)用,也可用于epi晶圓研發(fā)和試生產(chǎn)。
激光分子束外延系統(tǒng) 參考價(jià)：980000
激光分子束外延系統(tǒng)Laser MBE是新型激光薄膜制備技術(shù)設(shè)備,它集成了普通分子束外延（MBE）的超高真空、原位監(jiān)測(cè)的*點(diǎn)和脈沖激光沉積（PLD）的易于控制化學(xué)...
表面平整度測(cè)試儀 參考價(jià)：面議
哈特曼測(cè)量?jī)xHartmannometer是為測(cè)量光學(xué)表面平整度設(shè)計(jì)的哈特曼分析計(jì)量?jī)x器,是用方法和工作原理與菲索干涉儀 （Fizeau interferomet...
進(jìn)口Fizeau菲索干涉儀 參考價(jià)：面議
這款菲索干涉儀 （Fizeau interferometer）是專業(yè)為光學(xué)鏡片平整度測(cè)量而研發(fā)的菲佐干涉儀,配套干涉儀軟件可處理帶有額外傾斜的干涉圖。
光學(xué)表面測(cè)試儀 參考價(jià)：面議
光學(xué)表面測(cè)試儀是為光學(xué)表面平整度測(cè)試設(shè)計(jì)的平整度測(cè)量?jī)x,采用Shack-Hartmann波前傳感器技術(shù),激光束從被測(cè)光學(xué)表面反射后,進(jìn)入Shack-Hartma...
相移式點(diǎn)衍射干涉儀 參考價(jià)：面議
移相點(diǎn)衍射干涉儀用于表面形狀和透射波前質(zhì)量的超高精度測(cè)量。移相點(diǎn)衍射干涉儀檢測(cè)表面或波前的絕對(duì)圖形。絕對(duì)數(shù)字是指從絕對(duì)參考（即亞波長(zhǎng)孔徑衍射產(chǎn)生的球面波陣面）計(jì)...
單點(diǎn)硅片測(cè)厚儀 參考價(jià)：面議
單點(diǎn)硅片測(cè)厚儀MX30是采用單點(diǎn)測(cè)厚技術(shù)為硅晶圓厚度測(cè)量設(shè)計(jì)的硅晶圓測(cè)厚儀器。適合手動(dòng)測(cè)量單點(diǎn)的晶圓厚度。
多功能翹曲度測(cè)定儀 參考價(jià)：面議
多功能翹曲度測(cè)定儀是一款多參數(shù)翹曲度測(cè)試儀器,可以測(cè)量PCB,IC等翹曲度,應(yīng)變等參數(shù),更可以檢測(cè)隨溫度變化的翹曲度值。
晶圓翹曲度厚度測(cè)試儀 參考價(jià)：面議
晶圓翹曲度厚度測(cè)試儀是專業(yè)為晶圓翹曲度測(cè)量和晶圓厚度測(cè)量設(shè)計(jì)的晶圓厚度翹曲度測(cè)量?jī)x器。
進(jìn)口光學(xué)薄膜測(cè)厚儀 參考價(jià)：面議
薄膜測(cè)厚儀TohoSpec 3100是高精度薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng),采用小光斑光譜反射計(jì)獲得薄膜厚度信息,可靠的固態(tài)線性二極管陣列可快速、精確地測(cè)量單層薄膜，如氧化物...
鏡片透光率測(cè)試儀 參考價(jià)：面議
鏡片透光率測(cè)試儀是一款眼鏡鏡片透光率測(cè)量?jī)x器,廣泛用于薄膜透光率測(cè)試,比如LED擴(kuò)散板透光率測(cè)試,鏡頭透光率測(cè)試,玻璃透過(guò)率測(cè)試,隔熱紙材料透過(guò)率測(cè)試。
光學(xué)鏡頭測(cè)量?jī)x 參考價(jià)：面議
光學(xué)鏡頭測(cè)量?jī)x是為光學(xué)鏡頭和光學(xué)模組分析測(cè)試設(shè)計(jì)的光學(xué)鏡頭分析測(cè)試儀器,滿足鏡頭經(jīng)典光學(xué)參數(shù)的測(cè)量系統(tǒng),如EFL（焦距）（正/負(fù)）、BFL、FFL、半徑（凹/凸...
薄膜厚度繪圖儀mapping 參考價(jià)：面議
這款薄膜厚度繪圖儀采用光譜反射儀技術(shù)測(cè)量整個(gè)樣品薄膜面積的薄膜厚度和薄膜折射率等參數(shù)，對(duì)整個(gè)面積上的薄膜厚度繪圖獲得整面薄膜厚度分布和薄膜厚度均勻性參數(shù)
便攜式薄膜測(cè)厚儀 參考價(jià)：面議
這款便攜式薄膜測(cè)厚儀是便攜式光學(xué)薄膜厚度測(cè)量?jī)x,用于透明或半透明單層薄膜或膜系的薄膜厚度測(cè)量,薄膜吸收率測(cè)量,薄膜透過(guò)率測(cè)量,薄膜反射率測(cè)量,薄膜熒光測(cè)量等，這...
自動(dòng)橢圓偏振光譜儀 參考價(jià)：面議
自動(dòng)橢圓偏振光譜儀M300是一種自動(dòng)變角光譜橢偏儀和深紫外光譜橢偏儀,具有250-1100nm的波長(zhǎng)范圍，并具有自動(dòng)改變?nèi)肷浣堑墓δ堋?(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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