光纖端面檢測(cè)儀顯微鏡 參考價(jià)：面議
光纖端面檢測(cè)儀顯微鏡SpecVision™ 是光纖檢測(cè)視頻顯微鏡和光纖端面成像檢查儀器，可直接與Krell拋光機(jī)配合使用，可以在連接器或裸光纖仍裝載...
電子束蝕刻機(jī) 參考價(jià)：面議
電子束蝕刻機(jī),電子束光刻機(jī)是納米級(jí)刻蝕機(jī)，非常適合納米技術(shù)和芯片的制造研發(fā)。
掃描開(kāi)爾文探針系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
大面積掃描開(kāi)爾文探針系統(tǒng)能夠在垂直方向移動(dòng)開(kāi)爾文探針實(shí)現(xiàn)電動(dòng)控制開(kāi)爾文探針與樣品的距離。 樣品安裝到真空吸盤上，真空吸盤可帶著樣品移動(dòng)150x150mm位移，從...
磁控濺射物理氣相沉積PVD系統(tǒng) 參考價(jià)：800000
磁控濺射物理氣相沉積是多功能高壓PVD系統(tǒng),用于磁控濺射和多組分薄膜的熱蒸發(fā)，用于批量晶圓物理氣相沉積加工.磁控濺射物理氣相沉積可在加熱至700℃的晶圓上濺射多...
磁控濺射沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：800000
磁控濺射系統(tǒng)MagSput™是下一代磁控濺射沉積系統(tǒng)，實(shí)用性腔,可擴(kuò)展性高,且高度可靠,非常適合磁控濺射鍍膜科學(xué)研究。磁控濺射系統(tǒng)可定制。該腔室可設(shè)...
電子束-電阻熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
電子束-電阻熱蒸發(fā)復(fù)合鍍膜系統(tǒng)集合了電子束沉積鍍膜和電阻式熱蒸發(fā)鍍膜沉積功能。電拋光不銹鋼腔室（D形盒）
III族氮化物分子束外延系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
這款I(lǐng)II族氮化物分子束外延系統(tǒng)專業(yè)為A3N材料生長(zhǎng)設(shè)計(jì)的MBE設(shè)備,適合氨氣高溫下制備生長(zhǎng)A3N半導(dǎo)體材料,提供非常廣泛的可用生長(zhǎng)參數(shù)（有效氮通量、襯底溫度、...
三腔室分子束外延MBE系統(tǒng) 參考價(jià)：950000
三腔室分子束外延系統(tǒng)是帶有三個(gè)MBE分子束外延生長(zhǎng)腔室的異質(zhì)結(jié)材料MBE生長(zhǎng)設(shè)備,可用于在高達(dá)∅100mm的襯底上以及三個(gè)2英寸以上襯底上一次精確生...
混合異質(zhì)結(jié)構(gòu)分子束外延系統(tǒng)MBE 參考價(jià)：1200000
混合異質(zhì)結(jié)構(gòu)分子束外延系統(tǒng)具有雙反應(yīng)器,非常適合А3В5和А2В6異質(zhì)結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)應(yīng)用,也可用于epi晶圓研發(fā)和試生產(chǎn)。
激光分子束外延系統(tǒng) 參考價(jià)：980000
激光分子束外延系統(tǒng)Laser MBE是新型激光薄膜制備技術(shù)設(shè)備,它集成了普通分子束外延（MBE）的超高真空、原位監(jiān)測(cè)的*點(diǎn)和脈沖激光沉積（PLD）的易于控制化學(xué)...
相移式點(diǎn)衍射干涉儀 參考價(jià)：面議
移相點(diǎn)衍射干涉儀用于表面形狀和透射波前質(zhì)量的超高精度測(cè)量。移相點(diǎn)衍射干涉儀檢測(cè)表面或波前的絕對(duì)圖形。絕對(duì)數(shù)字是指從絕對(duì)參考（即亞波長(zhǎng)孔徑衍射產(chǎn)生的球面波陣面）計(jì)...
納米硬度計(jì) 參考價(jià)：面議
我們的多功能納米硬度計(jì)是進(jìn)口納米硬度測(cè)試儀和納米硬度測(cè)量?jī)x,通過(guò)掃描材料表面實(shí)現(xiàn)對(duì)材料力學(xué)性能的納米尺度的高精度測(cè)量，精確測(cè)量納米硬度，彈性模量，楊氏模量等材料...
多功能納米壓痕儀,動(dòng)態(tài),靜態(tài)壓痕測(cè)量 參考價(jià)：面議
多功能納米壓痕儀通過(guò)掃描材料表面實(shí)現(xiàn)對(duì)材料力學(xué)性能的納米尺度的高精度測(cè)量，精確給出硬度，彈性模量，楊氏模量等材料力學(xué)性能，并實(shí)現(xiàn)靜態(tài)壓痕測(cè)量和動(dòng)態(tài)壓痕測(cè)量以及s...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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