德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司
中級會(huì)員 | 第9年

18721247059

  • 紫外掩膜曝光機(jī)

    OAI 200型光刻機(jī) 和紫外曝光系統(tǒng)OAI系統(tǒng)可以處理各種常規(guī)和不規(guī)則形狀的寬范圍的基材。

    型號： Model 200 所在地：香港特別行政區(qū)參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2019/1/18 14:34:45 對比
    曝光機(jī)OAI紫外掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī)光刻機(jī)
1共1頁,1條記錄 跳轉(zhuǎn)

會(huì)員登錄

×

請輸入賬號

請輸入密碼

=

請輸驗(yàn)證碼

收藏該商鋪

X
該信息已收藏！
標(biāo)簽：
保存成功

(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)

常用：

提示

X
您的留言已提交成功！我們將在第一時(shí)間回復(fù)您~
撥打電話
在線留言