紫外掩膜曝光機 返回列表頁

OAI 200型光刻機 和紫外曝光系統(tǒng)

OAI系統(tǒng)可以處理各種常規(guī)和不規(guī)則形狀的寬范圍的基材。

高效光源在各種光譜上提供均勻的紫外線照射。.

OAI 200型光刻機和紫外線曝光系統(tǒng)是一種經(jīng)濟高效的高性能工具，采用行業(yè)驗證的模塊化組件進行設計，使OAI成為MEMS，納米技術和半導體設備行業(yè)的ling xian者。200型是臺式機型，需要小的潔凈室空間。它為研發(fā)，試驗或小批量生產(chǎn)提供了經(jīng)濟的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空卡盤校平系統(tǒng)，基板被快速和平緩地平整以用于平行光掩模對準和在接觸暴露期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)具有微米分辨率和對準精度。對準模塊具有掩模插入件組和快速更換晶片卡盤，其允許使用各種襯底和掩模，而不需要對機器重新設定。對準模塊包含X，Y和θ軸（微米）。200型對準器可以廣泛地安裝進對準光學儀器，包括背面IR。 IR照明真空吸盤可以被配置用于整個或或部分晶片的對準。 OAI 200型可配置OAI納米壓印模塊，使其成為低成本的NIL工具。 OAI還提供了一個模塊，設計用于使用液體光引物進行快速成型或生產(chǎn)微流體器件。 Model 200具有可靠的OAI光源，在近紫外或深紫外線下使用200至2000瓦功率的燈提供準直的紫外光。雙傳感器，光學反饋回路與恒定強度控制器相關聯(lián)，以提供在所需強度的±2％內的曝光強度的控制。可以簡單快速地改變UV波長。