Trion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng) 返回列表頁

Orion HDCVD 高密度氣相化學沉積系統(tǒng)采用高密度的化學氣相沉積技術(shù)，在惰性氣體進入口安裝感應(yīng)線圈，周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時，會發(fā)生化學反應(yīng)，然后在襯底表面沉積一層薄膜.

該技術(shù)不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度，并且該方法非常適合沉積在有機物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。            

射頻可通過Chuck改變薄膜性能。            

該系統(tǒng)可以升級傳送Loadlock，或添加到集群平臺Cluster。

該系統(tǒng)可以升級傳送Loadlock，或添加到集群平臺Cluster。