光刻曝光分析儀 返回列表頁(yè)

45年來(lái)，OAI始終是紫外能量測(cè)試儀器領(lǐng)域的*應(yīng)用商，其儀器用于半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)、晶圓封裝和晶圓植球行業(yè)中光刻工藝的可靠，精確校準(zhǔn)控制。

Model 659是一款手持式紫外功率計(jì)，配有觸摸屏和 USB 接口。通過(guò)使用特殊探頭（365nm、400nm、420nm 和 436nm），可以測(cè)量主要用于步進(jìn)應(yīng)用的寬范圍波長(zhǎng)。

             ●  多達(dá)400個(gè)曝光參數(shù)

             ●  以太網(wǎng)和USB接口，用于下載記錄的測(cè)量值

             ●  強(qiáng)度范圍達(dá)7500mW/cm2

             ●  強(qiáng)度分辨率：0.01mW/cm2

             ●  探頭波長(zhǎng)：365nm、400nm、420nm、436nm

Model 659 型曝光分析儀，與晶圓步進(jìn)光刻機(jī)配合使用，專為Ultratech Stepper等高強(qiáng)度光刻設(shè)備而設(shè)計(jì)（讀數(shù)高達(dá)7500mW/cm2,1000000mJ/cm2'',最長(zhǎng)9999秒）?？蛇x擇探頭光譜響應(yīng)：365nm、400nm、420nm或436nm.

        OAI擁有完整的認(rèn)證校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室，以確保儀器的性能，質(zhì)量，和可靠性。Model 659 可追溯至NIST標(biāo)準(zhǔn)。