深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 濕法勻膠工作臺

    Laurell的WS-1000MH系列微型濕法勻膠工作臺適用于更狹小的空間和較小的預算。這個簡單的工作站被提煉出真正的濕式工作站必須具備的精髓，以實現(xiàn)最大的經(jīng)濟...
    型號： WS-1000MH 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:45:26 對比

  • 無掩模光刻機

    μMLA無掩模光刻機是優(yōu)良的無模板技術(shù)，建立在著名的 μPG 平臺之上，該平臺是臺式無模板系統(tǒng)。
    型號： μMLA 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:34:47 對比

  • 掃描電鏡等離子清洗機

    CIF掃描電鏡等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內(nèi)碳氫化合物的清洗。
    型號： CIF-SEM 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:34:10 對比

  • 勻膠機

    H6-8型勻膠機機結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統(tǒng) 將 可容納最大 200mm 晶圓和 7 英...
    型號： H6-8 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:00:18 對比

  • 晶圓清洗機

    高效的緊湊型清洗裝置，為您的流程提供支持977晶圓清洗機系統(tǒng)專為切割后工件清洗和干燥而設計，配有旋轉(zhuǎn)卡盤臺、旋轉(zhuǎn)清洗/干燥臂。臂可配置霧化清潔噴嘴或高壓噴嘴，滿...
    型號： 977 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 13:37:50 對比

  • 等離子清洗和加熱機

    由德國UNITEMP研發(fā)的等離子清洗和加熱機，最大零件裝載面積：305 mm x 305 mm（最大零件高度為 25 mm）。
    型號： PTP-300 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:33:05 對比

  • 勻膠機

    laurell的H6-15系列勻膠機結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款650系列HL涂布機系統(tǒng) 將 可容納高達300mm 的晶圓...
    型號： H6-15 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:31:33 對比

  • 勻膠機

    laurell的H6-23型的勻膠機結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統(tǒng) 將 可容納最大 150m...
    型號： H6-23 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:30:46 對比

  • 無掩模直接成像儀光刻機

    PG 300 DI 是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 VPG 系統(tǒng)組件，能夠以最高的...
    型號： VPG 300 D... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:22:38 對比

  • 勻膠機

    laurell的WS-650-23B型勻膠機結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能。這款650系列涂布機系統(tǒng) 將 可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127m...
    型號： WS-650-23... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:07:17 對比

  • 勻膠機

    laurell的WS-650-8 B 型勻膠機結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能。這款650系列涂布機系統(tǒng) 將 可容納最大200mm晶圓和 7英寸×7英寸 （1...
    型號： WS-650-8B 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:27:15 對比

  • 高精密微3D光刻機

    織雀™PL-3D Premium 是托托科技自主研發(fā)的高精密微3D光刻設備， 最高光學分辨率可達1μm，支持最大50 mm×50 mm&#...
    型號： 織雀™... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:12:48 對比

  • 掩模對準光刻機

    掩模對準光刻機是用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動化掩模對準平臺。SUSS MicroTec 的 MA300 Gen3 是一款高度自動化的掩模...
    型號： MA300 Gen... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:31:21 對比

  • 掩膜自動處理系統(tǒng)

    掩模的完整性對高標準光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標準。它是應對 ...
    型號： MaskTrack... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:14:28 對比

  • 無掩膜光刻機

    BIO系列是生命科學版的無掩膜紫外光刻機，無掩膜光刻機具有更高的深寬比，能滿足生命科學領域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微...
    型號： BIO L+ 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:49:14 對比

  • 無掩膜光刻機

    Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機，其無掩膜光刻機配備了先進的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一...
    型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:43:34 對比

  • 星型全自動涂膠顯影機

    KS-S150星型全自動涂膠顯影機用于LED-PSS工藝的涂膠顯影制程及化合物半導體的涂膠顯影等制程?？杉嫒菟{寶石、砷化鎵和碳化硅等材質(zhì)的晶圓，產(chǎn)品涉及多個應用...
    型號： KS-S150 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:31:57 對比

  • 激光掩模光刻機

    ULTRA激光掩模光刻機 是專門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT） 和 ME...
    型號： ULTRA 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:11:10 對比

  • 無掩膜光刻機

    ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機，其基于空間光調(diào)制技術(shù)，實現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻，靈活性使其成為科學研究。設備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設備穩(wěn)定，上手簡單。...
    型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:08:14 對比

  • 雙軸全自動晶圓劃片機

    8230雙軸全自動晶圓劃片機：一款專為半導體制造設計的設備，集高效、精準、高性能與低成本于一身，最大支持12英寸晶圓切割。雙軸對向設計，提升切割效率，滿足高精度...
    型號： 8230 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:04:00 對比
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