深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 勻膠機(jī)

    Laurell的WS-650-15B型勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進(jìn)的功能。這款650系列系統(tǒng)將可容納高達(dá)300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229mm...
    型號： WS-650-15... 所在地：美國 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 16:56:30 對比

  • 雙軸半自動(dòng)劃片機(jī)

    雙軸半自動(dòng)劃片機(jī)是一款先進(jìn)的半導(dǎo)體切割設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造和封裝領(lǐng)域。該設(shè)備結(jié)合了高精度、高效率和穩(wěn)定性等特點(diǎn)，能夠滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體工業(yè)對切割精度的嚴(yán)格要求...
    型號： 7920 所在地：國外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 16:54:18 對比

  • 劃片機(jī)

    7234劃片機(jī)是一款高精度的半導(dǎo)體切割設(shè)備，主要用于晶圓或其他材料的切割加工。它配備了4英寸的空氣軸承主軸，采用直流無刷電機(jī)驅(qū)動(dòng)，轉(zhuǎn)速高達(dá)30krpm，能夠兼容...
    型號： 7234 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 16:35:19 對比

  • 勻膠機(jī)

    Laurell的EDC-650-23B型勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進(jìn)的功能。這款650系列EDC系統(tǒng)將可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127mm...
    型號： EDC-650-2... 所在地：美國 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 16:32:39 對比

  • 有掩膜光刻機(jī)

    VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計(jì)。它們支持所有標(biāo)準(zhǔn)的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 4...
    型號： VPG 200 /... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 16:25:58 對比

  • 雙光子聚合直寫光刻機(jī)

    MPO 100雙光子聚合直寫光刻機(jī)是一種雙光子聚合 （TPP） 多用戶工具，用于微結(jié)構(gòu)的 3D 光刻和 3D 顯微打印，適用于微光學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)械學(xué)和生物醫(yī)學(xué)...
    型號： MPO 100 所在地：國外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 16:00:30 對比

  • 勻膠機(jī)

    Laurell的EDC-650-8B勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能。這款650系列EDC系統(tǒng)將可容納最大200mm晶圓和7英寸×7英寸（178mm&#...
    型號： EDC-650-8... 所在地：美國 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 15:57:02 對比

  • 半自動(dòng)劃片機(jī)

    6110是一款高精度、高性能單軸半自動(dòng)劃片機(jī)，機(jī)身寬度490mm，占地面積小，結(jié)合全新設(shè)計(jì)的操作系統(tǒng)，提供高效、低使用成本的切割體驗(yàn)。
    型號： 6110 所在地：國外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 15:55:01 對比

  • 涂膠顯影機(jī)

    KS-FT200/300系列堆疊式高產(chǎn)能前道涂膠顯影機(jī)，為我司自主研發(fā)的突破晶圓前道28nm工藝節(jié)點(diǎn)及以上工藝制程，適用于ArF、KrF、I-Line、PI、B...
    型號： KS-FT200/... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 15:41:33 對比

  • 氣相分解金屬沾污收集（VPD）設(shè)備

    詳細(xì)介紹Seehund® A型氣相分解金屬沾污收集設(shè)備（VPD）是專為集成電路制造、大晶圓生產(chǎn)及再生、先導(dǎo)工藝研發(fā)等行業(yè)提供金屬沾污控制方案的產(chǎn)品。由...
    型號： Seehund&#... 所在地：徐州市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 15:19:49 對比

  • 勻膠機(jī)

    CIF勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡單，結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片...
    型號： MSC/SC1/2 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/2 17:12:57 對比

  • 烤膠機(jī)

    CIF烤膠機(jī)采用智能程序化控溫技術(shù)，控溫精準(zhǔn)均勻，加熱快速高效，維修簡單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達(dá)到0.1℃。適用于各種控溫精度高，加熱均勻...
    型號： PH22/35/2... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/2 17:12:27 對比

  • 等離子去膠機(jī)

    CIF等離子去膠機(jī) 采用電感耦合各向同性（各個(gè)方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體去膠。其外觀美學(xué)設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊，漂亮大氣，...
    型號： SPB-5/plu... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/2 17:10:10 對比

  • 無掩模直接成像儀

    VPG 300 DI 無掩模直接成像儀是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具，具有所有先進(jìn)的 VPG 系統(tǒng)...
    型號： VPG 300 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/27 10:34:35 對比

  • 有掩膜光刻機(jī)

    VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機(jī)為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專為顯示行業(yè)設(shè)計(jì)的最大的系統(tǒng)。它是平板...
    型號： VPG 800 /... 所在地：國外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/27 10:28:56 對比

  • 掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)

    MA200 3代掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)專為大批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)，適用于200毫米以下晶圓和方形襯底的自動(dòng)化加工。本系統(tǒng)集全場光刻技術(shù)與多種創(chuàng)新功能于一身。使其成為眾多應(yīng)用的...
    型號： MA200 Gen... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/27 9:37:26 對比

  • 掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)

    SUSS MicroTec為熱門化合物半導(dǎo)體工藝專門設(shè)計(jì)了一款新型光刻平臺：MA100/150e Gen2掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)。化合物半導(dǎo)體工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極...
    型號： MA100/150... 所在地：國外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/27 9:36:10 對比

  • 涂膠和顯影機(jī)

    ACS200 Gen3 涂膠和顯影機(jī)是創(chuàng)新組件和經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的組件結(jié)合的成功結(jié)果。它具有多達(dá) 4 個(gè)濕法工藝模塊和最多 19 塊板的能力，非常適合大批量生產(chǎn) （...
    型號： ACS200 Ge... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/27 9:30:44 對比

  • 涂膠與顯影機(jī)

    ACS300 Gen3作為模塊化系統(tǒng)，是為滿足量產(chǎn)環(huán)境而專門設(shè)計(jì)的。它提供了復(fù)雜的涂膠、顯影和烘烤功能，可輕松地適應(yīng)各種工藝。其的工藝控制，有效地支持廣泛的使用...
    型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:46:36 對比

  • 投影步進(jìn)電機(jī)

    AP200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺™構(gòu)建，可提供覆蓋層、分辨率和側(cè)壁輪廓性能，并可實(shí)現(xiàn)高度自動(dòng)化和具有成本...
    型號： AP200/300 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:21:06 對比
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