深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備

    PD-2201LC 是一種盒式裝載等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備,能夠沉積硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)。該系統(tǒng)在節(jié)省空間的提下提...
    型號: PD-2201LC 所在地:國外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 10:16:09 對比
  • 高密度等離子刻蝕裝置

    高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應(yīng)刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等...
    型號: ULHITETM ... 所在地:國外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 10:14:02 對比
  • 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD

    設(shè)計(jì)PECVD工藝模式的目的是要在控制薄膜性能,如折射率、應(yīng)力、電學(xué)特性和濕法化學(xué)刻蝕速率的前提下,生產(chǎn)均勻性好且沉積速率高的薄膜。PlasmaPro 100 ...
    型號: PlasmaPro... 所在地:國外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 10:10:40 對比
  • 高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺等部...
    型號: EB900 所在地:沈陽市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 10:10:28 對比
  • 原子層沉積ALD

    Kurt J. Lesker Company (KJLC) ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積 (ALD) 系統(tǒng),專為入門級到中級用戶而...
    型號: ALD-150LE... 所在地:國外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 10:09:18 對比
  • 程控伺服勻膠機(jī)

    AC200-S-PP勻膠機(jī),伺服驅(qū)動,PLC控制,7寸觸屏,真空可調(diào),支持加熱,工業(yè)級應(yīng)用,處理基片能力強(qiáng)。概述了AC200-S-PP程控伺服勻膠機(jī)的核心特性與...
    型號: AC200-S-P... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 10:05:48 對比
  • 離子束沉積設(shè)備

    光掩模制造需要高水平的顆??刂?,同時(shí)沉積復(fù)雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對這一挑戰(zhàn)。自 1990 年代以來,...
    型號: NEXUS IBD... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 10:02:06 對比
  • NLD干法刻蝕設(shè)備

    研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570,是搭載了愛發(fā)科磁性中性線(NLD- neutral loop discha...
    型號: NLD-570 所在地:國外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 9:59:57 對比
  • 干法刻蝕設(shè)備

    干法刻蝕設(shè)備 APIOS NE-950EX對應(yīng)LED量產(chǎn)用的干法刻蝕設(shè)備?NE-950EX?相對我司以往設(shè)備實(shí)現(xiàn)了140%的生產(chǎn)力。是搭載了ICP高密度等離子源...
    型號: APIOS NE-... 所在地:國外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 9:58:14 對比
  • 干法刻蝕裝置

    對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線(NLD- neutral l...
    型號: NLD-5700 所在地:國外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 9:54:46 對比
  • 投影掃描光刻機(jī)

    SUSS MicroTec公司推出了其下一代投影掃描光刻機(jī)‐DSC300投影掃描光刻機(jī)。這種專有的掃描光刻平臺擁有三位數(shù)的產(chǎn)能,并達(dá)到解析度( 2 μm)的分辨...
    型號: DSC300 所在地:國外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 9:53:56 對比
  • 程控伺服勻膠機(jī)

    AC200-SE程控伺服勻膠機(jī),高精度伺服驅(qū)動,PLC智能控制,7寸觸屏操作,耐溶劑材質(zhì),適用于多種工業(yè)應(yīng)用。
    型號: AC200-SE標(biāo)... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 9:49:13 對比
  • 電子束光刻機(jī)

    ELS-HAYATE是由ELIONIX研發(fā)的超高吞吐量電子束光刻機(jī),提供業(yè)界大的 5 毫米偏轉(zhuǎn)。非常適合需要關(guān)注字段間拼接錯(cuò)誤的應(yīng)用。
    型號: ELS-HAYAT... 所在地:日本 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 9:46:19 對比
  • 小巧型勻膠機(jī)

    EZ4-S-PP小巧型勻膠機(jī),小巧耐腐蝕,適用于手套箱內(nèi),液晶顯示,程序可調(diào),支持4寸底物,鋁合金/PP外殼可選。
    型號: EZ4-S 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 9:44:22 對比
  • 薄膜沉積PVD設(shè)備

    Kurt J. Lesker Company PVD-BATCH DRUM系列由兩種標(biāo)準(zhǔn)尺寸(PVD 200 和 PVD 500)組成,可配置為水平或垂直配置。...
    型號: PVD-BATCH... 所在地:國外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 9:44:10 對比
  • 電子束光刻機(jī)

    ELS-BODEN Σ這是ELONIX自創(chuàng)業(yè)以來多年來一直致力于開發(fā)的新型號的電子束光刻機(jī)。 采用模塊系統(tǒng),可以自由組合加速電壓、腔室尺寸、傳輸機(jī)構(gòu)和防振臺,為...
    型號: ELS-BODEN... 所在地:日本 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 9:42:57 對比
  • 電子束光刻機(jī)

    ELS-BODEN是由ELIONIX開發(fā)的電子束光刻機(jī),非常適合研究和開發(fā)!支持從高清繪圖到大電流高速繪圖的廣泛應(yīng)用。
    型號: ELS-BODEN 所在地:日本 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 9:39:08 對比
  • 多片式MOCVD系統(tǒng)

    Satur系列 多片式MOCVD系統(tǒng),優(yōu)異的均勻性、一致性、穩(wěn)定性控制,MOCVD 即金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積,是一種用于生長化合物半導(dǎo)體薄膜的技術(shù)。它通過將Ⅲ族...
    型號: Satur系列 所在地:北京市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 9:32:47 對比
  • 紫外臭氧清洗機(jī)

    這款紫外臭氧清洗機(jī),集成嵌入式控制系統(tǒng),人性化設(shè)計(jì),便捷高效,質(zhì)量有保障,專業(yè)服務(wù),是科研與實(shí)驗(yàn)的理想伙伴。
    型號: UC100-SE 所在地:南京市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 9:32:08 對比
  • 多功能刻蝕機(jī)

    GSE C200 多功能刻蝕機(jī)等離子體源設(shè)計(jì),保證良好的刻蝕均勻性.GSE C200采用高密度等離子體源,刻蝕速率高、均勻性好、顆??刂颇芰?qiáng)、易維護(hù)、性能穩(wěn)定...
    型號: GSE C200 所在地:北京市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 9:28:16 對比

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