一级国语免费毛片,a毛片毛片AV永久免费

半自動CMP拋光機
CMP拋光機是一款針對薄膜（介質層）的拋光設備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容，采用手動裝片方式，可配置半自動loading系統(tǒng)，氣...
型號： TMP-200S/... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:08:39 對比

拋光
真空蒸餾設備
真空蒸餾設備CEH系列該設備的用途是真空蒸餾處理?？稍谡婵障碌蜏囟虝r間蒸餾熱感受性高的物質（熱分解·重重合的物質）。具有非常優(yōu)異的分離效率。
型號： CEH系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:06:41 對比

CEH系列真空蒸餾設備愛發(fā)科 ULVAC
12英寸槽式清洗設備
12英寸槽式清洗設備Pinnacle300平臺適用于集成電路、功率半導體、襯底材料、硅基微顯示領域的清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源...
型號： Pinnacle3... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:03:36 對比

Pinnacle300 12英寸槽式清洗設備北方華創(chuàng)
6/8英寸全自動槽式清洗機
GAMA系列6/8英寸全自動槽式清洗機滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應用，可用于典型0.35um、0.1...
型號： GAMA Seri... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:01:01 對比

GAMA Series 6/8英寸全自動槽式清洗機北方華創(chuàng)
CMP
G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運用于研發(fā)，操作簡單，成本低。
型號： GNP POLI-... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:47:51 對比

半導體濕法化學機械拋光
12英寸立式中高溫氧化爐
12英寸立式中高溫氧化爐THEORIS X302H主要用于12英寸1000℃-1200℃高溫和超高溫氧化和退火工藝。該機臺為立式單腔爐管系統(tǒng)，工藝處理過程實現了...
型號： THEORIS X... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:34:33 對比

THEORIS X302H/P 12英寸立式中高溫氧化爐北方華創(chuàng)
高級研磨機
使用 Veeco 的 Optium® ASL 200™ 研磨系統(tǒng)實現更高水平的控制和 TFMH 工藝產量。這種高精度硬盤頭研磨系統(tǒng)可大程度...
型號： Optium AS... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 14:13:50 對比

研磨機晶圓研磨
CIF手套箱專用等離子清洗機
CIF手套箱專用等離子清洗機推出VGB-P系列手套箱專用等離子清洗設備，優(yōu)化的腔體結構及合理的結構設計更適合手套箱內使用。安裝簡單方便，性能穩(wěn)定，實用性強，容...
型號： VGB3/3plu... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/2 17:07:31 對比

等離子清洗機清洗機
單晶爐
直拉法晶體生長系統(tǒng)SC28單晶爐專為200-300毫米（8-12英寸）單晶硅的工業(yè)生產而設計。該系統(tǒng)可靈活配置，滿足客戶對產品的特殊要求，例如客戶要求的爐室部件...
型號： SC28 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/8/15 14:34:50 對比

半導體晶圓單晶爐
碳化硅高溫退火爐
VERIC A6151A 碳化硅高溫退火爐適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備
型號： VERIC A61... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/8/14 14:15:47 對比

碳化硅高溫退火爐 VERIC A6151A
LSA 101 激光退火爐
Veeco 的 LSA101 系統(tǒng)安裝在的 IDM 和晶圓代工廠，是大批量制造 40nm 至 14nm 節(jié)點的先進邏輯器件的技術。LSA 101 的掃描技術基于...
型號：所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/13 10:43:38 對比

激光退火
半自動單軸減薄機
半自動單軸減薄機是一款操作簡單、功能豐富、性價比高的高精度研削設備，采用手動裝片方式，配置自動厚度測量和補償系統(tǒng)，可自動研削至目標值。工作臺可根據客戶需求進行定...
型號： IVG-2020/... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/13 10:40:39 對比

減薄機

深圳市矢量科學儀器有限公司

深圳市矢量科學儀器有限公司

會員登錄

收藏該商鋪

提示