深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 半自動CMP拋光機

    CMP拋光機是一款針對薄膜(介質層)的拋光設備,操作便捷,兼容性強,通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容,采用手動裝片方式,可配置半自動loading系統(tǒng),氣...
    型號: TMP-200S/... 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 15:08:39 對比
  • 真空蒸餾設備

    真空蒸餾設備CEH系列該設備的用途是真空蒸餾處理??稍谡婵障碌蜏囟虝r間蒸餾熱感受性高的物質(熱分解·重重合的物質)。具有非常優(yōu)異的分離效率。
    型號: CEH系列 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 15:06:41 對比
  • 12英寸槽式清洗設備

    12英寸槽式清洗設備Pinnacle300平臺適用于集成電路、功率半導體、襯底材料、硅基微顯示領域的清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源...
    型號: Pinnacle3... 所在地:北京市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 15:03:36 對比
  • 6/8英寸全自動槽式清洗機

    GAMA系列6/8英寸全自動槽式清洗機滿足全部濕法工藝需求,覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應用,可用于典型0.35um、0.1...
    型號: GAMA Seri... 所在地:北京市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 15:01:01 對比
  • CMP

    G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運用于研發(fā),操作簡單,成本低。
    型號: GNP POLI-... 所在地:韓國 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 14:47:51 對比
  • 12英寸立式中高溫氧化爐

    12英寸立式中高溫氧化爐THEORIS X302H主要用于12英寸1000℃-1200℃高溫和超高溫氧化和退火工藝。該機臺為立式單腔爐管系統(tǒng),工藝處理過程實現了...
    型號: THEORIS X... 所在地:北京市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 14:34:33 對比
  • 高級研磨機

    使用 Veeco 的 Optium® ASL 200™ 研磨系統(tǒng)實現更高水平的控制和 TFMH 工藝產量。這種高精度硬盤頭研磨系統(tǒng)可大程度...
    型號: Optium AS... 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 14:13:50 對比
  • CIF手套箱專用等離子清洗機

    CIF手套箱專用等離子清洗機 推出VGB-P系列手套箱專用等離子清洗設備,優(yōu)化的腔體結構及合理的結構設計更適合手套箱內使用。安裝簡單方便,性能穩(wěn)定,實用性強,容...
    型號: VGB3/3plu... 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/2 17:07:31 對比
  • 單晶爐

    直拉法晶體生長系統(tǒng)SC28單晶爐專為200-300毫米(8-12英寸)單晶硅的工業(yè)生產而設計。該系統(tǒng)可靈活配置,滿足客戶對產品的特殊要求,例如客戶要求的爐室部件...
    型號: SC28 所在地:美國 參考價: 面議 更新時間:2024/8/15 14:34:50 對比
  • 碳化硅高溫退火爐

    VERIC A6151A 碳化硅高溫退火爐適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備
    型號: VERIC A61... 所在地:北京市 參考價: 面議 更新時間:2024/8/14 14:15:47 對比
  • LSA 101 激光退火爐

    Veeco 的 LSA101 系統(tǒng)安裝在的 IDM 和晶圓代工廠,是大批量制造 40nm 至 14nm 節(jié)點的先進邏輯器件的技術。LSA 101 的掃描技術基于...
    型號: 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2024/8/13 10:43:38 對比
  • 半自動單軸減薄機

    半自動單軸減薄機是一款操作簡單、功能豐富、性價比高的高精度研削設備,采用手動裝片方式,配置自動厚度測量和補償系統(tǒng),可自動研削至目標值。工作臺可根據客戶需求進行定...
    型號: IVG-2020/... 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2024/8/13 10:40:39 對比

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