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IVG系列-全/半自動單/雙軸減薄機
半自動單軸減薄機是一款操作簡單、功能豐富、性價比高的高精度研削設備，采用手動裝片方式，配置自動厚度測量和補償系統(tǒng)，可自動研削至目標值。工作臺可根據客戶需求進行定...
型號：所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:04:05 對比

減薄機全自動半導體單雙軸半自動
半自動雙軸減薄機
半自動雙軸減薄機是一款安裝兩個砂輪軸的高精度研削設備，采用手動裝片方式，配置自動厚度測量和補償系統(tǒng)，產品粗磨后移動至精磨位置，自動研削至目標值。工作臺可根據客戶...
型號： IVG-2035/... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:53:51 對比

減薄機
12英寸單片快速熱退火系統(tǒng)
Sitara TA230A 12英寸單片快速熱退火系統(tǒng)，適用于 260-1200℃快速熱處理工藝。
型號： Sitara TA... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:48:12 對比

12英寸單片快速熱退火系統(tǒng)Sitara TA230A 北方華創(chuàng)
碳化硅快速熱退火系統(tǒng)
Pallas A220 碳化硅快速熱退火系統(tǒng)，加熱分區(qū)設計，具備良好的溫度均勻性。
型號： Pallas A2... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:36:30 對比

Pallas A220 碳化硅快速熱退火系統(tǒng)北方華創(chuàng)
IVG-2040/3040 --全自動單軸減薄機
全自動單軸減薄機是一款高精度、高效率的研削設備，專為半導體制造、硅片加工、光學材料處理及薄膜材料制備等領域設計。
型號：所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:34:32 對比

減薄機半導體前道工藝
CMP
GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工藝而開發(fā)，也為先進晶圓制造商和耗材供應商設計的。GNP POLI-500廣泛用于耗材供應商，襯...
型號： GNP POLI系... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:32:48 對比

半導體化學機械拋光濕法
感應式碳化硅長晶爐
APS系列感應式碳化硅長晶爐，適用于 6 英寸、8 英寸，導電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。
型號： APS系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:30:49 對比

感應式碳化硅長晶爐 APS系列
電阻式碳化硅長晶爐
AGF系列電阻式碳化硅長晶爐，適用于 6、8 英寸，導電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。
型號： AGF系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:27:53 對比

電阻式碳化硅長晶爐 AGF系列北方華創(chuàng)
CMP后清洗機
GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12")晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:16:24 對比

半導體濕法化學機械拋光
雙面晶圓研磨機
雙面研磨機是一款操作簡單，兼容性強的高效率研磨加工設備。主要用于晶片的雙面機械研磨，通過搭配不同材質的研磨盤和不同粒徑及材質的研磨液，可以實現不同材料，不同尺寸...
型號： TDL-600/1... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:13:26 對比

晶圓研磨
CMP后清洗機
GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:48:10 對比

半導體濕法化學機械拋光
CMP后清洗機
GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:19:20 對比

半導體濕法清洗
CMP后清洗機
GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
型號： GNP CEANE... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:56:54 對比

半導體清洗濕法
CMP
GnP POLI-610專為藍寶石等復合晶圓的CMP工藝開發(fā)而設計。特別是該系統(tǒng)對于晶圓工藝開發(fā)具有較低的擁有成本，材料評估和生產前運行。
型號： GNP POLI-... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:51:37 對比

半導體濕法化學機械拋光
等離子清洗設備
PC-1100是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染。該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從小型電子元件到大型基板等多種產...
型號： PC-1100 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:16:58 對比

PC-1100 等離子清洗設備 SAMCO
紫外線臭氧清洗設備
UV-300HC紫外線臭氧清洗設備是一款高性能的盒式裝載UV臭氧清洗機，用于生產。這個行業(yè)先的系統(tǒng)有2個裝載盒，可以達到200-300nm/min的高灰化率。該...
型號： UV-300HC 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:01:44 對比

紫外線臭氧清洗設備 UV-300HC SAMCO
Batch式高真空蒸發(fā)設備
Batch式高真空蒸發(fā)設備ei系列是可對應在基板上成金屬膜或氧化物膜的設備?？赏ㄟ^操作面板實現抽真空、成膜等作業(yè)內容的集中自動化操作，適用于研究開發(fā)及少量生產。
型號： ei系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:42:25 對比

Batch式高真空蒸發(fā)設備 ULVAC 愛發(fā)科 ei系列
活性化退火設備
PFS系列是SiC工藝等高溫處理工藝中，配合使用的退火設備。可最大對應φ 150mm。
型號： PFS系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:34:17 對比

活性化退火設備 PFS系列退火爐 ULVAC 愛發(fā)科
真空計
皮拉尼真空計，可以測量從大氣壓到5×10-2Pa的廣泛的壓力范圍該真空計從傳統(tǒng)的控制器（傳感器單元）中除去操作·顯示部，最大限度凝縮精簡功能...
型號： SW系列所在地：日本參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:24:10 對比

真空計
真空泵
VS系列是旋片式（單級）的油旋轉真空泵?？纱钆淞_茨泵獲得更大的排氣量。內置油霧過濾器和回油裝置，排氣性能長期穩(wěn)定。此外，設計上還考慮到了油和濾芯更換等維保的便宜...
型號： VS系列所在地：日本參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:10:10 對比

真空泵