深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • RIE等離子蝕刻系統(tǒng)

    SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載等離子體蝕刻系統(tǒng)，結(jié)合了RIE平行板電極設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)和直接負(fù)載的成本效益設(shè)計(jì)。
    型號(hào)： SENTECH E... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:16:02 對(duì)比

  • 低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)

    SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代表了電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿技術(shù)，其最寬溫度范圍為 -150 ...
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:00:11 對(duì)比

  • 激光干涉儀

    用于SENTECH Instruments等離子系統(tǒng)的SENTECH SLI激光干涉儀端點(diǎn)監(jiān)測(cè)器與聚焦的相干激光束一起工作。激光束穿過(guò)等離子系統(tǒng)的頂部視口，并被...
    型號(hào)： 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/14 10:28:25 對(duì)比

  • PEALD 系統(tǒng)

    SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對(duì)敏感基材和層進(jìn)行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體種類(lèi)，而沒(méi)有紫外線(xiàn)輻射或離子轟擊。...
    型號(hào)： SI PEALD 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:25:24 對(duì)比

  • PEARD系統(tǒng)

    SENTECH SILAYO是一種用于光學(xué)鍍膜的等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)，擴(kuò)展了SENTECH PECVD和ALD產(chǎn)品組合。SENTECH SI...
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:25:06 對(duì)比

  • 等離子體蝕刻系統(tǒng)

    SI 500 C 代表了專(zhuān)為低溫蝕刻而設(shè)計(jì)的電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿。SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代...
    型號(hào)： SI 500 C 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:19:16 對(duì)比

  • 等離子蝕刻系統(tǒng)

    SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子體蝕刻系統(tǒng)使用具有低離子能量的電感耦合等離子體 （ICP） 源，可實(shí)現(xiàn)低損傷蝕刻和納米結(jié)構(gòu)。
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:18:54 對(duì)比

  • 開(kāi)蓋等離子蝕刻系統(tǒng)

    等離子蝕刻系統(tǒng) Etchlab 200 具有經(jīng)濟(jì)高效的 RIE 直接加載的優(yōu)點(diǎn)。SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載...
    型號(hào)： Etchlab 2... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:18:30 對(duì)比

  • ICPECVD 系統(tǒng)

    電感耦合等離子體 （ICP） 沉積系統(tǒng)，SENTECH SI 500 D 用于介電膜的高密度、低離子能量和低壓等離子體沉積，以及用于鈍化層的低損傷、低溫沉積。S...
    型號(hào)： SI 500 D 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/8/12 10:09:28 對(duì)比
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