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Trion Orion HDCVD Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
- 品牌
- 型號(hào) Trion Orion HDCVD
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2019/1/15 17:32:51
- 訪問次數(shù) 1272
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產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
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Orion HDCVD 高密度氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)采用高密度的化學(xué)氣相沉積技術(shù),在惰性氣體進(jìn)入口安裝感應(yīng)線圈,周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當(dāng)惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時(shí),會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),然后在襯底表面沉積一層薄膜.
該技術(shù)不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度,并且該方法非常適合沉積在有機(jī)物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。
射頻可通過Chuck改變薄膜性能。
該系統(tǒng)可以升級(jí)傳送Loadlock,或添加到集群平臺(tái)Cluster。
該系統(tǒng)可以升級(jí)傳送Loadlock,或添加到集群平臺(tái)Cluster。