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貝內(nèi)克 C2R 超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜

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空間原子層沉積鍍膜

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

價(jià)格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜

Beneq C2R 是我們集群兼容設(shè)備系列的空間 ALD 成員。

Beneq C2R 將等離子體增強(qiáng)原子層沉積 (PEALD) 工藝提升到一個(gè)全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強(qiáng)旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝,Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇,甚至可達(dá)幾微米。

Beneq C2R 為光學(xué)鍍膜和阻隔層等工業(yè)應(yīng)用中的高性能原子層沉積 (ALD) 提供最佳解決方案。

當(dāng)速度、成本、低工藝溫度和盡可能高的薄膜質(zhì)量是驅(qū)動(dòng)因素時(shí),Beneq C2R 是理想的產(chǎn)品。

技術(shù)亮點(diǎn)

  • 超高沉積速率,高達(dá)每小時(shí)幾微米

  • 批量 PEALD 工藝,適用于多達(dá) 7 個(gè) 200 mm 晶圓

  • 適用于厚度達(dá) 30 mm 的鏡頭和其他 3D 基板

  • 膜厚均勻性高,適用于要求苛刻的光學(xué)鍍膜應(yīng)用

  • 可配備負(fù)載鎖或晶圓自動(dòng)化。

自動(dòng)化選項(xiàng)

Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信賴的 MX400 傳輸模塊的自動(dòng)化選項(xiàng)。自動(dòng)化服務(wù)包括:

  • Brooks MX400 基于集群的模塊

  • 雙臂掃地機(jī)器人

  • 樣品對(duì)準(zhǔn)器

  • 可選預(yù)熱和冷卻







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