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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備>四探針測(cè)試儀> KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測(cè)試儀

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KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測(cè)試儀

參考價(jià)50000-999999/臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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FIRSTNANO成立于2012年,一家由三位材料學(xué)博士共同創(chuàng)辦的德國(guó)公司。基于 Science is international”的想法,“全球協(xié)同實(shí)驗(yàn)室”成為三位博士追逐的夢(mèng)想。

公司愿景是從科學(xué)家到科學(xué)家,科學(xué)開創(chuàng)美好未來(lái)。

FIRSTNANO深耕于半導(dǎo)體技術(shù)、材料科學(xué)、生命科學(xué)等科研領(lǐng)域,始終秉承“前沿、專業(yè)、科學(xué)”的宗旨,將前沿技術(shù)引進(jìn)到協(xié)同實(shí)驗(yàn)室。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程;材料科學(xué)的檢測(cè)、分析;生命科學(xué)成像,腦科學(xué)與行為認(rèn)知等相關(guān)領(lǐng)域。作為全球科技前沿的儀器供應(yīng)商,FIRSTNANO具有全球技術(shù)視野、優(yōu)質(zhì)供應(yīng)體系、以及嚴(yán)格的質(zhì)量管控系統(tǒng),能為客戶提供前沿的技術(shù)解決方案。

公司服務(wù)的客戶領(lǐng)域廣泛,其中包括消費(fèi)電子、航空、航天、醫(yī)藥技術(shù)、半導(dǎo)體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機(jī)構(gòu)。

在成長(zhǎng)的過程中,我們腳踏實(shí)地、奮勇向前。自2015年香港(中華區(qū))公司成立以來(lái),我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設(shè)立了分支機(jī)構(gòu)。

我們真誠(chéng)邀請(qǐng)業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM,一起為夢(mèng)想揚(yáng)帆起航!

 

 

 

 

半導(dǎo)體儀器和電子產(chǎn)品耗材耗材

價(jià)格區(qū)間 10萬(wàn)-50萬(wàn) 應(yīng)用領(lǐng)域 電子,冶金,航天,電氣,綜合
自動(dòng)化度 全自動(dòng)

從半導(dǎo)體制造到實(shí)現(xiàn)可穿戴技術(shù)所需的柔性電子產(chǎn)品,在任何需要用到導(dǎo)電薄膜的行業(yè)中,對(duì)方塊電阻的測(cè)量與監(jiān)控都至關(guān)重要。KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測(cè)試儀擁有KLA方阻測(cè)量技術(shù)超過45年的創(chuàng)新積淀。自 1975 年推出電阻率計(jì)以來(lái),KLA品牌已革新了導(dǎo)電層的方塊電阻和厚度測(cè)量技術(shù)。R50可對(duì)金屬層厚度、薄膜電阻、薄膜電阻率、薄膜電導(dǎo)和薄膜電導(dǎo)率進(jìn)行測(cè)繪。R54是方塊電阻測(cè)量的新一代升級(jí)款,它在保持 R50相同性能情況下提供遮光環(huán)境,能夠支持半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體應(yīng)用。


KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測(cè)試儀結(jié)合了KLA公司45年來(lái)在方塊電阻測(cè)量領(lǐng)域以及Filmetrics團(tuán)隊(duì)20年來(lái)在桌面式儀器和用戶界面方面的技術(shù)。

對(duì)于較薄的金屬和離子注入層,建議采用接觸式四探針(4PP)測(cè)量方法,對(duì)于較厚的金屬層和柔性或軟性的導(dǎo)電表面,建議采用非接觸式渦流(EC)測(cè)量方法。我們的技術(shù)能夠滿足各種測(cè)量需求,包括但不限于以下:

  • 金屬薄膜及背面工藝層厚度測(cè)量

  • 襯底電阻率

  • 方塊電阻

  • 薄膜厚度或電阻率

  • 薄層和體材料的導(dǎo)電率

經(jīng)過優(yōu)化的Filmetrics R50能夠支持各種樣品的測(cè)量需求,可以使用矩形、線性、極坐標(biāo)和自定義配置等采樣點(diǎn)排列方式進(jìn)行測(cè)繪。
KLA Instruments™ R54系列在安裝不透光外殼的情況下,能夠提供R50所具有的測(cè)量性能,并新增了X-Y-θ全自動(dòng)載臺(tái),用于半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體的200mm或300mm晶圓檢測(cè)。





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