產(chǎn)品簡(jiǎn)介
Harrick Plasma 具有悠久歷史的專業(yè)光學(xué)光譜儀器的設(shè)計(jì)和制造。自1969開始,Harrick Plasma ,行業(yè)享有盛名。該公司的創(chuàng)始人N. J. Harrick博士,開創(chuàng)了內(nèi)反射光譜和成為該技術(shù)的主要*。 Harrick Plasma 研發(fā)了三十多年前的*臺(tái)臺(tái)式研究等離子體器件。高功率等離子清洗機(jī),現(xiàn)在Harrick Plasma 儀器在許多研究實(shí)驗(yàn)室是廣泛應(yīng)用。
詳細(xì)介紹
PDC-002等離子清洗機(jī)特點(diǎn):
- 桌面型
- 射頻功率可調(diào)(低檔,中檔,高檔)
- zui大功率30KW
- 腔體直徑6英寸,深6.5英寸
- 鉸鏈門設(shè)計(jì)
- 風(fēng)冷
- PDC-002等離子清洗機(jī)集成開關(guān)控制真空泵
- 1/8英寸NPT接頭閥
- 1/8英寸三通閥
- 重量:37磅
- 尺寸:11"HX18''9''D
Harrick Plasma 等離子清洗機(jī)參考客戶:
蘭州大學(xué) 鄭州大學(xué) 上海交通大學(xué) 上海復(fù)旦大學(xué) 合肥工業(yè)大學(xué) 成都電子科技大學(xué) 北京大學(xué) 清華大學(xué)醫(yī)工所 蘭州化物所 中科院納米所 等等
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