深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測(cè)量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途...
    型號(hào)： DZ350 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:33:48 對(duì)比

  • 濺射系統(tǒng)

    iTops PVD AlN 濺射系統(tǒng)，采用托盤(pán)形式，可兼容 2/4/6 英寸,工藝溫度在 0~700℃之間。
    型號(hào)： iTops PVD... 所在地：北京市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:22:41 對(duì)比

  • 濺射系統(tǒng)

    iTops PVD ITO 濺射系統(tǒng)，加熱能力、精確的溫度控制、優(yōu)異的真空能力.高晶體質(zhì)量的氮化鋁薄膜及優(yōu)異的薄膜厚度均勻性。
    型號(hào)： iTops PVD... 所在地：北京市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:18:05 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào)： PVD400 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:08:37 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
    型號(hào)： PVD500 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 13:55:32 對(duì)比

  • 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：用于...
    型號(hào)： SMART 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 11:24:56 對(duì)比

  • 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：用于...
    型號(hào)： 線列式 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 11:19:19 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào)： TRP450 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 11:03:09 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的粉末樣品表面...
    型號(hào)： PC450 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 10:23:15 對(duì)比

  • 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)

    eVictor系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，加熱基座設(shè)計(jì)，具備良好的溫度均勻性，高溫厚鋁工藝連續(xù)作業(yè)無(wú)累溫。
    型號(hào)： eVictor系列 所在地：北京市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 10:18:26 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào)： JGP450 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 10:16:29 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào)： JGP560 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 10:12:04 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用可行軟件控制系統(tǒng)...
    型號(hào)： FJL560 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 10:05:00 對(duì)比

  • 原子層沉積ALD

    Phoenix®系統(tǒng)經(jīng)過(guò)精心設(shè)計(jì)，可在從中試生產(chǎn)到工業(yè)級(jí)制造的任何制造環(huán)境中實(shí)現(xiàn)高吞吐量和最長(zhǎng)的正常運(yùn)行時(shí)間。技術(shù)人員和研究人員依靠 Phoenix&...
    型號(hào)： Phoenix 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 10:02:26 對(duì)比

  • 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、抗氧化基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途：用于...
    型號(hào)： PLD300 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 9:54:51 對(duì)比

  • 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等組成。設(shè)備用途：脈沖激光沉積(Pu...
    型號(hào)： PLD450 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 9:49:09 對(duì)比

  • 原子層沉積ALD

    用于高級(jí)研究的先進(jìn)能力Veeco 是原子層沉積 （ALD） 系統(tǒng)供應(yīng)商，為研究和工業(yè)提供全面的服務(wù)和多功能的交鑰匙系統(tǒng)，這些系統(tǒng)易于訪問(wèn)、經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且精確到原子尺...
    型號(hào)： Savannah 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 17:40:21 對(duì)比

  • 8英寸離子束沉積（IBD）設(shè)備

    Ganister™ A離子束沉積設(shè)備，是針對(duì)低溫、高致密、高均勻性薄膜沉積工藝所開(kāi)發(fā)的專用產(chǎn)品，在硬盤(pán)磁頭、硬磁偏置層、布拉格反射鏡等器件的制備中有...
    型號(hào)： Ganister&... 所在地：徐州市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 16:37:11 對(duì)比

  • 等離子增強(qiáng)原子層沉積PEALD

    我們的 Fiji® 系列是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統(tǒng)，采用靈活的架構(gòu)和多種前驅(qū)體和等離子體氣體配置，可適應(yīng)各種沉積模式。Fiji G2 是下一...
    型號(hào)： Fiji 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 15:00:25 對(duì)比

  • 物理氣相沉積PVD

    Veeco 的單靶點(diǎn) NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統(tǒng)為各種薄膜沉積應(yīng)用提供了最大的靈活性。NEXUS PVD 的加工精度為 200 毫米，具有先進(jìn)的工藝...
    型號(hào)： NEXUS 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/4 14:42:13 對(duì)比
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