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線列式PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 中國科學(xué)院沈陽科學(xué)儀器股份有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2019/5/23 17:22:32
- 訪問次數(shù) 326
產(chǎn)品標(biāo)簽
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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設(shè)備用途
本設(shè)備采用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)，線列式PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，用以制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
設(shè)備組成
線列式PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備多室CVD結(jié)構(gòu)由2個(gè)進(jìn)出片室、3個(gè)獨(dú)立PECVD反應(yīng)真空室按直線結(jié)構(gòu)連接，工件通過傳輸機(jī)構(gòu)輸送到各個(gè)真空室中進(jìn)行工藝處理，各真空室間用插板閥連接。該系統(tǒng)主要由真空室、真空獲得系統(tǒng)、射頻和甚高頻電源、襯底加熱控溫系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)、傳動(dòng)系統(tǒng)等部分組成。
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