HPGe探測器 參考價：面議
這款HPGe探測器是專業(yè)為X射線和伽瑪射線探測而設(shè)計的一種電子制冷的高純鍺探測器，不需要液氮制冷。 非常適合各種伽瑪射線和X射線探測使用,是理想的伽瑪射線探測器...
高純鍺探測器 參考價：面議
這款HPGe探測器是為X射線和伽瑪射線能譜探測而設(shè)計制冷型高純鍺探測器,非常適合高分辨率伽瑪射線探測和X射線探測使用,是理想的伽瑪射線探測器。
無機(jī)閃爍探測器 參考價：面議
無機(jī)閃爍探測器是采用無機(jī)閃爍晶體材料制成的閃爍體探測器,當(dāng)電離輻射相互作用時這些無機(jī)閃爍晶體材料具有發(fā)光的特性。
高壓脈沖驅(qū)動電源 參考價：面議
高壓脈沖驅(qū)動電源提供高達(dá)45KV的高壓脈沖，上升沿時間為150ps，可作為全固態(tài)脈沖源和雷達(dá)天線脈沖發(fā)生器,雷達(dá)天線脈沖源。
電子槍柵控電源 參考價：面議
這款電子槍柵控電源是快沿脈沖驅(qū)動電源,基于2KV雪崩開關(guān)器件，可提供200ps 到6ns的方波，并具有多種輸出電壓，是一種多用途快沿脈沖信號源和多功能快前沿脈沖...
超快脈沖發(fā)生器 參考價：面議
超快脈沖發(fā)生器UTV50是通用上升沿高達(dá)200ps的超快脈沖源,低抖動,重復(fù)率高達(dá)20kHz,最大輸出電壓為50V（50?）。
快前沿脈沖電源 參考價：面議
快前沿脈沖電源CPS3-S-V-P是一種快沿脈沖發(fā)生器,可輸出大于3KV的方形脈沖，上升沿時間150ps, 下降沿時間500ps,負(fù)載50歐姆,可作為方波脈沖發(fā)...
延時信號脈沖發(fā)生器 參考價：面議
延時信號脈沖發(fā)生器PDG是精密脈沖延時發(fā)生器,廣泛用于觸發(fā)同步控制,相機(jī)成像時序控制,相控陣天線,交換傳輸線無源延遲裝置等。
超快高壓脈沖發(fā)生器 參考價：面議
超快高壓脈沖發(fā)生器是一種快前沿高壓脈沖發(fā)生器,具有12KV高壓脈沖輸出能力,上升沿時間為100ps, 是理想的超寬帶雷達(dá)脈沖源和寬帶雷達(dá)脈沖發(fā)生器,也適合用于E...
快前沿超高壓脈沖電源 參考價：面議
快前沿超高壓脈沖電源是一種全固態(tài)超快高壓脈沖器,提供高達(dá)45KV的高壓脈沖,上升沿時間為150ps,非常適合用作雷達(dá)天線脈沖器和雷達(dá)天線脈沖源。
皮秒高壓脈沖發(fā)生器 參考價：面議
這款皮秒高壓脈沖發(fā)生器是新一代4KV超快前沿脈沖發(fā)生器,上升沿時間約為100皮秒,它具有兩個超快千伏脈沖輸出通道，每個輸出通道都可輸出4KV,50歐姆負(fù)載的高壓...
高壓脈沖源,脈沖發(fā)生器pulser 參考價：面議
高壓脈沖源是具有快速上升沿時間的高壓脈沖發(fā)生器，上升沿時間為100ps,負(fù)載50歐姆可提供5KV~8kV的高壓輸出，廣泛用于超寬帶雷達(dá)驅(qū)動和普克爾盒驅(qū)動等領(lǐng)域。
快沿高壓脈沖源 參考價：面議
這款快沿高壓脈沖源是采用新一代雪崩開關(guān)轉(zhuǎn)換技術(shù)的全固態(tài)高壓脈沖發(fā)生器,提供較快的上升沿時間和高壓脈沖值，具有良好的可靠性?？商峁?00ps上升沿時間和高達(dá)6.5...
高壓脈沖源 參考價：面議
PBG高壓脈沖源是基于串行開關(guān)技術(shù)的新一代固態(tài)脈沖發(fā)生器。與之前設(shè)備相比，性能更強(qiáng)，主要是在脈沖幅度，快速上升時間和可靠性方面性能增強(qiáng)。
階梯波脈沖發(fā)生器 參考價：面議
階梯波發(fā)生器step generator是專業(yè)為階梯波應(yīng)用設(shè)計的階梯脈沖發(fā)生器和階梯信號發(fā)生器,廣泛用于時域反射計TDR,光纖調(diào)制器驅(qū)動,電纜相應(yīng)時間測試等應(yīng)用...
勞厄勞埃法晶體定向儀 參考價：面議
勞厄勞埃法晶體定向儀勞厄單晶定向儀是為晶體定向和表征單晶設(shè)計的實時Laue相機(jī)。勞厄單晶定向系統(tǒng)快速且容易地定向單晶。使用操縱桿控制的電動載物臺操縱晶體樣品的方...
脈沖激光沉積系統(tǒng)工作站 參考價：面議
脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站PLD是氧化還原系統(tǒng)，脈沖激光沉積（PLD）是一種用于薄膜沉積的多用途工藝，其主要*點是將化學(xué)計量的材料從靶轉(zhuǎn)移到襯底。
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)系統(tǒng) 參考價：面議
反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)???????RIE600W是一款進(jìn)口等離子體反應(yīng)離子蝕刻機(jī),用于各向同性蝕刻,蝕刻氧化物、氮化物、聚合物等薄膜。
感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng) 參考價：面議
???????感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)ICPRIE由射頻電源感應(yīng)產(chǎn)生等離子體,以產(chǎn)生各向異性蝕刻。在基本ICP-RIE蝕刻系統(tǒng)中，射頻直接連接到用作電極的樣品臺...
電子束蝕刻機(jī) 參考價：面議
電子束蝕刻機(jī),電子束光刻機(jī)是納米級刻蝕機(jī)，非常適合納米技術(shù)和芯片的制造研發(fā)。
進(jìn)口干法刻蝕機(jī) 參考價：面議
太陽能電池單面干法刻蝕機(jī)是專業(yè)為晶圓刻蝕設(shè)計的干法蝕刻機(jī)。這款太陽能電池刻蝕機(jī)專為小型試驗線和科學(xué)研究機(jī)構(gòu)設(shè)計,圍繞一個ADE反應(yīng)堆建造的.可配備自動裝載機(jī)/卸...
等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)采用*大的腔室和等離子ALD模塊,獲得**的原子層沉積效果。
ALD系統(tǒng),原子層沉積設(shè)備 參考價：面議
ALD系統(tǒng)AT410提供了用于3D樣品制備的共形導(dǎo)電薄膜解決方案，同時還提供了目前使用濺射/蒸發(fā)生長的傳統(tǒng)2D涂層。
KPFM-SKPM開爾文探針力顯微鏡 參考價：面議
這款KPFM開爾文探針力顯微鏡,SKPM掃描開爾文探針力顯微鏡(Kelvin Probe Force Microscopy)可以訪問從50mm到350mm的樣品...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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