表面光電壓譜儀 參考價：面議
表面光電壓譜儀是專業(yè)為研究光敏材料（如有機(jī)半導(dǎo)體、太陽能電池或光敏染料）設(shè)計的表面光電壓儀器,Surface Photovoltage.
掃描開爾文探針系統(tǒng) 參考價：面議
大面積掃描開爾文探針系統(tǒng)能夠在垂直方向移動開爾文探針實現(xiàn)電動控制開爾文探針與樣品的距離。 樣品安裝到真空吸盤上，真空吸盤可帶著樣品移動150x150mm位移，從...
單點開爾文探針系統(tǒng) 參考價：面議
我們的單點開爾文探針系統(tǒng)采用非零信號檢測方法對材料的功函數(shù)/費(fèi)米能級進(jìn)行非常高質(zhì)量的測量。
超高真空開爾文探針系統(tǒng) 參考價：面議
超高真空開爾文探針系統(tǒng)幫助用戶充分利用真空下的工作功能和接觸電位差（CPD）測量。每個系統(tǒng)都配有高質(zhì)量的手動或電動轉(zhuǎn)換器，可實現(xiàn)可靠和準(zhǔn)確的針尖到樣品定位，跟蹤...
開爾文探針系統(tǒng),Kelvin Probe 參考價：面議
開爾文探針系統(tǒng)Kelvin Probe可用于光電化學(xué)中,精確測量不同半導(dǎo)體和導(dǎo)電材料的功函數(shù)，精度高。表面態(tài)在樣品的電荷轉(zhuǎn)移和功函數(shù)變化中起著重要作用。
低溫UHV掃描探針顯微鏡 參考價：面議
這款低溫UHV掃描探針顯微鏡是超高真空室內(nèi)應(yīng)用設(shè)計的高真空低溫SPM掃描探針顯微鏡。樣品預(yù)處理和探針清洗可在超高真空室中進(jìn)行，使超低溫STM/AFM能夠進(jìn)行原子...
超低溫磁場掃描隧道顯微鏡 參考價：1500000
超低溫磁場掃描隧道顯微鏡是超低溫高磁場表面物理研究設(shè)計的STM掃描隧道顯微鏡。廣泛應(yīng)用于表面科學(xué)研究的前沿領(lǐng)域，實現(xiàn)了低溫和高磁場的掃描隧道顯微鏡商用化
超高真空超低溫四探針SPM顯微鏡 參考價：面議
這超高真空超低溫四探針SPM是超高真空室內(nèi)應(yīng)用設(shè)計的UHV極低溫多探針掃描探針顯微鏡，得益于多探針SPM優(yōu)異性能,這款產(chǎn)品可用于納米技術(shù)
低溫高真空針尖增強(qiáng)拉曼光譜系統(tǒng) 參考價：面議
低溫高真空針尖增強(qiáng)拉曼光譜系統(tǒng)采用一種低溫單分子成像方法,在低溫高真空條件下，可實現(xiàn)亞納米級拉曼光譜成像，提高信噪比和靈敏度
超高真空極低溫強(qiáng)磁場掃描隧道顯微鏡 參考價：1500000
超高真空極低溫強(qiáng)磁場掃描隧道顯微鏡是高性能掃描隧道顯微鏡應(yīng)用于前沿表面科學(xué)研究的理想工具,實現(xiàn)了低溫和強(qiáng)磁場?；鶈柨蛇_(dá)40mK （typecal 30 mK），...
聚焦離子束蝕刻系統(tǒng) 參考價：1200000
這套聚焦離子束蝕刻系統(tǒng)是一種超高真空UHV條件多功能FIB系統(tǒng),既可以配置為掃描電子顯微鏡SEM,也可以配置為結(jié)合SEM和高性能聚焦離子束FIB的雙束平臺。
高壓濺射PVD物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價：550000
高壓PVD系統(tǒng)配置適合在晶圓濺射金屬膜,磁性材料,多組分氧化物,得益于它靈活的配置和特殊的晶圓加熱器設(shè)計,PVD可以在溫度最高900℃的襯底上濺射金屬膜層和磁性...
磁控濺射物理氣相沉積PVD系統(tǒng) 參考價：800000
磁控濺射物理氣相沉積是多功能高壓PVD系統(tǒng),用于磁控濺射和多組分薄膜的熱蒸發(fā)，用于批量晶圓物理氣相沉積加工.磁控濺射物理氣相沉積可在加熱至700℃的晶圓上濺射多...
電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 參考價：1200000
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是按照“從實驗室到工廠"的方法設(shè)計的電子束鍍膜蒸發(fā)系統(tǒng),既適用于密集的研發(fā)活動，也適用于中試生產(chǎn)。
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 參考價：1000000
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是采用PECVD技術(shù)專業(yè)為介質(zhì)膜鍍膜設(shè)計的化學(xué)氣相沉積設(shè)備。
晶圓真空氧化退火熱處理系統(tǒng) 參考價：面議
這款半導(dǎo)體晶圓熱處理系統(tǒng)是為半導(dǎo)體晶圓在可控氣體、真空、氧化或還原氣氛中的晶圓高溫處理系統(tǒng)，可對晶圓真空退火，氧氣退火處理。 鋁室的特殊設(shè)計允許在*溫度（高達(dá)1...
晶圓熱退火爐 參考價：面議
這款晶圓熱退火爐是半導(dǎo)體晶片惰性氣氛快速熱退火系統(tǒng),適合晶圓的最大直徑為100mm,晶圓通過上部快速檢修門手動裝入腔室，并放置在熱補(bǔ)償石墨臺上。加熱器系統(tǒng)基于線...
COVAP物理氣相沉積系統(tǒng),PVD系統(tǒng) 參考價：面議
COVAP物理氣相沉積系統(tǒng)為許多工藝應(yīng)用提供緊湊、經(jīng)濟(jì)、但仍然穩(wěn)健的PVD解決方案。
物理氣相沉積平臺PVD,濺射,電子束蒸發(fā) 參考價：面議
多功能物理氣相沉積平臺可搭載濺射,熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā),等離子體和離子束處理功能模塊,是多功能PVD系統(tǒng)。允許更大的腔室投擲距離，并能夠適應(yīng)更多工藝增強(qiáng)。
磁控濺射沉積系統(tǒng) 參考價：800000
磁控濺射系統(tǒng)MagSput™是下一代磁控濺射沉積系統(tǒng)，實用性腔,可擴(kuò)展性高,且高度可靠,非常適合磁控濺射鍍膜科學(xué)研究。磁控濺射系統(tǒng)可定制。該腔室可設(shè)...
離子束沉積系統(tǒng),離子shu沉積濺射鍍膜 參考價：面議
離子束沉積系統(tǒng)IBD采用真空沉積工藝，使用直接聚焦在濺射靶上的寬束離子源實現(xiàn)離子束沉積濺射鍍膜。然后，來自靶材的濺射材料沉積在附近的襯底上形成薄膜。
電子束蒸發(fā)系統(tǒng),EB-4P電子shu沉積系統(tǒng) 參考價：800000
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P也是電子束沉積系統(tǒng),有四個容量不同的袖珍坩堝和各種電源,可以添加熱阻源或直流和射頻濺射或蝕刻。
真空電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),真空沉積鍍膜 參考價：面議
真空電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)CRTE & THE是具成本效益的真空沉積鍍膜技術(shù)之一,熱蒸發(fā)在沉積有機(jī)材料如OLED（有機(jī)發(fā)光二極管）方面有許多應(yīng)用。
電子束-電阻熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 參考價：面議
電子束-電阻熱蒸發(fā)復(fù)合鍍膜系統(tǒng)集合了電子束沉積鍍膜和電阻式熱蒸發(fā)鍍膜沉積功能。電拋光不銹鋼腔室（D形盒）(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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