德國優(yōu)尼藤專業(yè)致力于制造真空熱工藝處理設(shè)備，人性化的設(shè)計，桌面型/空間緊湊。在世界各大*大學實驗室，研究所等機構(gòu)廣泛應用

RTP-100/RTP-100-HV真空快速退火爐

應用于4英寸的真空/高真空快速退火應用。

應用領(lǐng)域：

• 離子注入/接觸退火；

• 快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；

• 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同氣體氛圍環(huán)境下使用；

• SiAu, SiAl, SiMo合金化；

• 低介電材料；

• 晶體化，致密化；

• 太陽能電池片鍵合；

• 電阻燒結(jié)

• 其他熱工藝需求

• 等等...

產(chǎn)品特點：

- 真空快速退火爐，有RTP-100型號    低真空(10-3 hPa)

                                  RTP-100-HV      高真空(10-6 hPa)；

- 可應用在不同氣氛環(huán)境下使用，如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等；

- 控制方式：SPS人機界面控制，7英寸觸摸屏控制；

- 可存儲50個程序，每個程序zui多分為50步驟控制；

- 全自動智能控制，包括溫度、時間、氣體流量、真空度、冷卻水均可自動設(shè)置；

- 優(yōu)異的溫控均勻性，的工藝重復性；

技術(shù)規(guī)格：

- zui高溫度：1200℃；

- 升溫速率：150℃/秒；

- 降溫速度：200℃/分鐘 (1000℃-->400℃)；

- 溫控均勻性：≤ 1.5%設(shè)定溫度；

- 加熱方式：紅外鹵素燈，頂部及底部加熱，也可單獨控制加熱

- 燈管數(shù)量及功率：18支/20KW

- 腔體冷卻：水冷方式，獨立冷卻源

- 襯底冷卻：氮氣吹掃；

- 工藝氣路：MFC控制，zui多4路 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等)；

參考客戶：

中科院蘇州納米所、西安交通大學、清華大學、中山大學、西安電子科技大學、中科院上海技術(shù)物理所、北京航天儀器研究所、鄭州大學、CETC13等。