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GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：
帶有水冷或者加熱（高可加熱到700度）功能，大到6“旋轉(zhuǎn)平臺，大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)?
GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：
帶有水冷或者加熱(高可加熱到700度)功能，大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
不銹鋼，鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
70l/s的渦輪分子泵，串接機(jī)械泵或干泵
1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計算機(jī)控制
帶密碼保護(hù)功能的多級訪問控制
*的安全聯(lián)鎖功能
選配項(xiàng)：
Thickness Monitor 膜厚監(jiān)測應(yīng) 用：
SEM應(yīng)用
濺射金屬，大到6"的晶圓片
