深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)

    SUSS MicroTec為熱門化合物半導(dǎo)體工藝專門設(shè)計了一款新型光刻平臺：MA100/150e Gen2掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)?；衔锇雽?dǎo)體工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極...
    型號： MA100/150... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/8/27 9:36:10 對比

  • 涂膠和顯影機(jī)

    ACS200 Gen3 涂膠和顯影機(jī)是創(chuàng)新組件和經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的組件結(jié)合的成功結(jié)果。它具有多達(dá) 4 個濕法工藝模塊和最多 19 塊板的能力，非常適合大批量生產(chǎn) （...
    型號： ACS200 Ge... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/27 9:30:44 對比

  • 多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺

    Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。P...
    型號： PRO Line ... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/14 16:39:14 對比

  • 熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計特別適合手套...
    型號： NANO 36&t... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/8/14 15:30:30 對比

  • 等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    EPEE系列 等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)單片和多片式架構(gòu)，滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求高效遠(yuǎn)程等離子體清洗系統(tǒng)，優(yōu)異的顆粒控制.滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求.
    型號： EPEE系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/14 14:00:47 對比

  • 金屬化學(xué)氣相沉積MOCVD

    用于 5G、光子學(xué)和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系統(tǒng)全自動單晶圓簇系統(tǒng)可在 300 毫米基板上生產(chǎn) 5G 射頻、光子學(xué)和高級 ...
    型號： Propel 30... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/13 16:07:47 對比

  • 高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：系統(tǒng)主要由3個真空沉積室（分別沉積P、I、N結(jié)）、1個進(jìn)樣室、1個中央傳輸室、平板式電極、基片加熱臺、工作氣路、傳送機(jī)械手、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺、射頻電...
    型號： PECVD 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/13 14:40:44 對比

  • 高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積

    高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空反應(yīng)室、上蓋組件、噴淋頭裝置、熱絲架、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。本...
    型號： PECVD 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/13 13:58:48 對比

  • 化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)

    化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)AIX G5 WW C“下一代碳化硅電力電子器件的最佳性能，以應(yīng)對全球大趨勢"高吞吐量批量外延與單晶圓控制 - 兩全其美。
    型號： AIX G5 WW... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/8/13 11:12:18 對比

  • 扇出型晶圓級熱拆鍵合

    扇出型晶圓級熱拆鍵合? FOWLP優(yōu)化熱拆鍵合? 全自動脫膠? FOWLP晶圓翹曲控制和測量? FOWLP晶圓正反面標(biāo)記? 可獨(dú)立的全自動翹曲矯正模式? 符合S...
    型號： MDM330s 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 11:33:25 對比

  • 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積

    PlasmaPro 100 Nano用于生長1D / 2D納米材料和異質(zhì)結(jié)構(gòu)的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通過在線催化劑活...
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 11:13:24 對比

  • 原子層沉積（ALD）

    FlexAL系統(tǒng)可提供遠(yuǎn)程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結(jié)構(gòu)和器件的工程設(shè)計提供了一系列新的靈活性和可行性。ALD產(chǎn)品家族涵蓋的系列設(shè)備可以滿足學(xué)術(shù)界、...
    型號： FlexAL 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 11:04:26 對比

  • 原子層沉積研究設(shè)備

    TFS 500 是薄膜鍍膜應(yīng)用的理想選擇。作為第一個 Beneq 反應(yīng)器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。TFS 500 是多...
    型號： TFS 500 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 11:03:34 對比

  • 超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜

    超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜Beneq C2R 是我們集群兼容設(shè)備系列的空間 ALD 成員。Beneq C2R 將等離子體增強(qiáng)原子層沉積 （PEALD） 工...
    型號： 貝內(nèi)克 C2R 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 11:03:18 對比

  • 原子層沉積

    市場和應(yīng)用用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應(yīng)用的理想選擇。各種類型鋰離子和固態(tài)...
    型號： 捷尼賽思 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 11:03:02 對比

  • 緊透尺寸檢測系統(tǒng)

    可靠、快速和可重復(fù)的手動和自動檢測基于VoidInspect的自動氣泡計算易于使用的動態(tài)增強(qiáng)過濾功能，例如eHDR使用micro3Dslice和FF CT軟件的...
    型號： Cougar EV... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:47:29 對比

  • 涂膠與顯影機(jī)

    ACS300 Gen3作為模塊化系統(tǒng)，是為滿足量產(chǎn)環(huán)境而專門設(shè)計的。它提供了復(fù)雜的涂膠、顯影和烘烤功能，可輕松地適應(yīng)各種工藝。其的工藝控制，有效地支持廣泛的使用...
    型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:46:36 對比

  • 離子束濺射 （IBD） 光學(xué)鍍膜系統(tǒng)

    用 Veeco 的 SPECTOR® 離子束濺射 （IBD） 光學(xué)鍍膜系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)更高的精度和薄膜工藝靈活性。SPECTOR IBD 光學(xué)鍍膜系統(tǒng)具有多...
    型號： SPECTOR 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:26:10 對比

  • PEALD 系統(tǒng)

    SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對敏感基材和層進(jìn)行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體種類，而沒有紫外線輻射或離子轟擊。...
    型號： SI PEALD 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:25:24 對比

  • PEARD系統(tǒng)

    SENTECH SILAYO是一種用于光學(xué)鍍膜的等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)，擴(kuò)展了SENTECH PECVD和ALD產(chǎn)品組合。SENTECH SI...
    型號： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/12 10:25:06 對比
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