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Orion Proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 北方華創(chuàng)
- 型號 Orion Proxima
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/9/5 15:43:59
- 訪問次數(shù) 216
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1. 產(chǎn)品概述
Orion Proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。
2. 設(shè)備用途/原理
Orion Proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),填孔能力以及高沉積速率,溫度場和 ICP 電磁場設(shè)計保證了低溫高致密的膜質(zhì)表現(xiàn),優(yōu)化機(jī)臺結(jié)構(gòu),縮小占地面積,友好的人機(jī)交互和安全性設(shè)計保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效。
3. 設(shè)備特點
晶圓尺寸 12 英寸,適用材料氧化硅。適用工藝淺溝槽隔離、金屬間介質(zhì)層、鈍化層。適用域 新興應(yīng)用、集成電路。等離子體化學(xué)氣相沉積(plasmachemical vapor deposition)是指用等離子體激活反應(yīng)氣體,促進(jìn)在基體表面或近表面空間進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)膜的技術(shù)。按產(chǎn)生等離子體的方法,分為射頻等離子體、直流等離子體和微波等離子體CVD等。