Orion Proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

1. 產(chǎn)品概述

Orion Proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。

2. 設(shè)備用途/原理

Orion Proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，填孔能力以及高沉積速率，溫度場和 ICP 電磁場設(shè)計保證了低溫高致密的膜質(zhì)表現(xiàn)，優(yōu)化機(jī)臺結(jié)構(gòu)，縮小占地面積，友好的人機(jī)交互和安全性設(shè)計保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效。

3. 設(shè)備特點

晶圓尺寸 12 英寸，適用材料氧化硅。適用工藝淺溝槽隔離、金屬間介質(zhì)層、鈍化層。適用域 新興應(yīng)用、集成電路。等離子體化學(xué)氣相沉積(plasmachemical vapor deposition)是指用等離子體激活反應(yīng)氣體，促進(jìn)在基體表面或近表面空間進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，生成固態(tài)膜的技術(shù)。按產(chǎn)生等離子體的方法，分為射頻等離子體、直流等離子體和微波等離子體CVD等。