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POLOS® BEAM XL Mk2無(wú)掩模光刻機(jī)
POLOS?BEAMXLMk2無(wú)掩模光刻機(jī)-0.1μm重復(fù)性和6“平臺(tái)行程-0.8微米分
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POLOS® BEAM Mk2 無(wú)掩模光刻機(jī)
POLOS?BEAMMk2無(wú)掩模光刻機(jī)-0.1μm重復(fù)性和4“平臺(tái)行程-分辨率為0.8
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日本無(wú)掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器
日本桌面臺(tái)式無(wú)掩膜光刻機(jī)PALETDDB-701與傳統(tǒng)的光刻工藝中使用鉻玻
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臺(tái)式光刻機(jī)參數(shù):1.最大曝光面積:160mm*160mm。⒉.曝光分辨率:1um(
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實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)參數(shù):1.曝光面積:160mm*160mm。2.曝光分辨率:接觸式
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勻膠機(jī)旋涂?jī)x是一款桌上型實(shí)驗(yàn)室勻膠機(jī),采用了設(shè)計(jì)理念,配合精密
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自動(dòng)勻膠顯影機(jī)可實(shí)現(xiàn)不同功能模塊的自由組合定制;配載精密的運(yùn)動(dòng)