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HMS-901HS晶圓烤膠機(jī)(光刻)PX 2326
PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)PX 2277
KT-S2DQX小型等離子去膠機(jī)清洗機(jī)PX 3921
POLOS® BEAM XL Mk2無掩模光刻機(jī)PX 3063
VP-Q10微波等離子去膠機(jī)PX 2240
SYSC-300高精度程控勻膠機(jī) 旋.PX 3388
AC300-S-CTM自動(dòng)勻膠顯影機(jī)PX 1372
臺(tái)式光刻機(jī)PX 5050
MHY-30268智能程控勻膠機(jī)PX 2952
HC160PE可編程勻膠機(jī)(旋涂儀)PX 2280
納米壓印技術(shù)咨詢PX 1833
UV-Writer無掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)PX 2857
HAD-T0109潤滑脂抗水淋性能測試儀PX 3618
超大型勻膠機(jī)PX 3172
PALET DDB-701日本無掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器PX 3498
低溫等離子處理設(shè)備PX 5127
AS-11SUGIYAMA杉山電機(jī)振動(dòng)傳感器PX 1771
SPIN150i SPIN200iAPT 勻膠旋涂儀PX 4625
EVG610納米壓印光刻系統(tǒng)PX 7210
SC200-SE高精密勻膠機(jī)PX 3956
勻膠機(jī)PX 1166
ABN-MLM-001無掩膜光刻機(jī)PX 4123
TD-A280D優(yōu)質(zhì)勻膠機(jī) 旋涂儀 烘膠臺(tái) 烤膠機(jī)PX 2307
德國海德堡進(jìn)口科研型3D納米激光直寫光刻機(jī)PX 3120
GH/KW-4A北京勻膠機(jī)PX 3339
HAD-ZD2數(shù)顯旋渦式振篩機(jī)PX 4872
L20001英國Ossila-Spin CoaterPX 4466
無掩膜/激光直寫光刻機(jī)PX 1560
520HE 納米壓印透鏡三維壓印機(jī)PX 3285
PR-3離子去膠機(jī)PX 2736
C-43型 9英寸國產(chǎn)光刻機(jī)PX 6150
plasma等離子去膠機(jī) 清洗活化改性設(shè)備PX 1954
Nikon S207D掃描式光刻機(jī)PX 1950
FPUPN-NANOONE微納米3D打印機(jī),多光子光刻PX 4649
PPS-8200p1/8300p1日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī)PX 3464
LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備PX 3149
JW-A66寸程控觸屏臺(tái)式勻膠機(jī)旋涂儀PX 3921
MHY-26174勻膠機(jī)PX 2897
納米壓印系統(tǒng)PX 3247
全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī)PX 1895
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
POLOS® BEAM XL Mk2無掩模光刻機(jī)
POLOS® BEAM Mk2 無掩模光刻機(jī)
日本無掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器
勻膠機(jī)
臺(tái)式光刻機(jī)
實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)
勻膠機(jī)旋涂儀
自動(dòng)勻膠顯影機(jī)
國產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)
小型等離子去膠機(jī)清洗機(jī)
微波等離子去膠機(jī)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
廣播電視節(jié)目經(jīng)營許可證
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