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SYSC-300高精度程控勻膠機(jī) 旋.PX 3338
PLUTO-M型等離子表面處理機(jī)PX 2200
HC220PE精密勻膠機(jī)PX 2280
納米壓印技術(shù)咨詢PX 1833
UV-Writer無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫(xiě)系統(tǒng)PX 2834
HAD-T0109潤(rùn)滑脂抗水淋性能測(cè)試儀PX 3528
AC200-PP-CTM勻膠顯影機(jī)PX 5137
HMS-901HS晶圓烤膠機(jī)PX 3320
超大型勻膠機(jī)PX 3112
PALET DDB-701日本無(wú)掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器PX 3614
低溫等離子處理設(shè)備PX 5233
AS-11SUGIYAMA杉山電機(jī)振動(dòng)傳感器PX 1879
SPIN150i SPIN200iAPT 勻膠旋涂?jī)xPX 4645
EVG610納米壓印光刻系統(tǒng)PX 7310
SC200-SE高精密勻膠機(jī)PX 3956
勻膠機(jī)PX 1266
ABN-MLM-001無(wú)掩膜光刻機(jī)PX 3891
TD-A280D優(yōu)質(zhì)勻膠機(jī) 旋涂?jī)x 烘膠臺(tái) 烤膠機(jī)PX 2307
AC300-S-CTM自動(dòng)勻膠顯影機(jī)PX 1422
德國(guó)海德堡進(jìn)口科研型3D納米激光直寫(xiě)光刻機(jī)PX 3370
GH/KW-4A北京勻膠機(jī)PX 3389
HAD-ZD2數(shù)顯旋渦式振篩機(jī)PX 4889
L20001英國(guó)Ossila-Spin CoaterPX 4148
無(wú)掩膜/激光直寫(xiě)光刻機(jī)PX 1560
520HE 納米壓印透鏡三維壓印機(jī)PX 3185
HMS-901HS晶圓烤膠機(jī)(光刻)PX 2326
MHY-29071自動(dòng)滴膠勻膠機(jī)PX 3002
PR-3離子去膠機(jī)PX 2936
C-43型 9英寸國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)PX 5787
plasma等離子去膠機(jī) 清洗活化改性設(shè)備PX 1954
Nikon S207D掃描式光刻機(jī)PX 1900
FPUPN-NANOONE微納米3D打印機(jī),多光子光刻PX 4176
PPS-8200p1/8300p1日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī)PX 3214
LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備PX 3107
JW-A66寸程控觸屏臺(tái)式勻膠機(jī)旋涂?jī)xPX 3976
MHY-26174勻膠機(jī)PX 3020
納米壓印系統(tǒng)PX 3212
全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī)PX 1895
GK100桌面微型紫外光刻機(jī)PX 3258
L-858DSEKONIC/日本世光原裝全新攝影曝光機(jī)PX 3447
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
日本無(wú)掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器
勻膠機(jī)
臺(tái)式光刻機(jī)
實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)
勻膠機(jī)旋涂?jī)x
自動(dòng)勻膠顯影機(jī)
伺服勻膠機(jī)
臺(tái)式勻膠機(jī)
微波等離子去膠機(jī)
等離子表面處理機(jī)
自動(dòng)顯影勻膠機(jī)
上海衡平儀器儀表有限公司
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