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MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)PX 1950
Polaris系列12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
DZ450高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
KaRon 設(shè)備部件鍍膜設(shè)備PX 1950
DZ350高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
LMBE450超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PVD400高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PVD500高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
SMART磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
線列式磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
TRP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PC450高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
customized高真空互聯(lián)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
eVictor系列8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
JGP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
JGP560高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
FJL560高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PLD300高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PLD450高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
NEXUS物理氣相沉積PVDPX 1950
DZS500高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PRO Line PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺PX 1950
NANO 36™熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
EPEE系列等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
物理氣相沉積(PVD)PX 0
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
Nikalyte NEXUS物理氣相沉積系統(tǒng)
Nikalyte NL-FLEX物理氣相沉積系統(tǒng)
Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)
磁控濺射物理氣相沉積PVD系統(tǒng)
部件鍍膜設(shè)備
薄膜沉積PVD設(shè)備
有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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