請(qǐng)選擇參數(shù)!
-
POLOS® BEAM XL Mk2無(wú)掩模光刻機(jī)
POLOS?BEAMXLMk2無(wú)掩模光刻機(jī)-0.1μm重復(fù)性和6“平臺(tái)行程-0.8微米分
-
POLOS® BEAM Mk2 無(wú)掩模光刻機(jī)
POLOS?BEAMMk2無(wú)掩模光刻機(jī)-0.1μm重復(fù)性和4“平臺(tái)行程-分辨率為0.8
-
日本無(wú)掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器
日本桌面臺(tái)式無(wú)掩膜光刻機(jī)PALETDDB-701與傳統(tǒng)的光刻工藝中使用鉻玻
-
-
臺(tái)式光刻機(jī)參數(shù):1.最大曝光面積:160mm*160mm。⒉.曝光分辨率:1um(
-
實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)參數(shù):1.曝光面積:160mm*160mm。2.曝光分辨率:接觸式
-
勻膠機(jī)旋涂?jī)x是一款桌上型實(shí)驗(yàn)室勻膠機(jī),采用了設(shè)計(jì)理念,配合精密
-
自動(dòng)勻膠顯影機(jī)可實(shí)現(xiàn)不同功能模塊的自由組合定制;配載精密的運(yùn)動(dòng)
- 怎么提升納米激光直寫(xiě)系統(tǒng)的準(zhǔn)確度
- 如何提升納米激光直寫(xiě)的精度問(wèn)題
- 納米光電子設(shè)備開(kāi)啟未來(lái)科技之門(mén)的微小巨人
- 揭秘勻膠機(jī)旋涂?jī)x的工作原理與性能優(yōu)化
- 無(wú)掩膜直寫(xiě)光刻設(shè)備擁有跨尺度納米級(jí)三維加工能力
- 納米尺度的藝術(shù)——探索納米激光直寫(xiě)系統(tǒng)
- 納米壓印光刻設(shè)備的養(yǎng)護(hù)是一件很重要的事情
- 勻膠機(jī)具有哪些特點(diǎn)呢?
- 保養(yǎng)納米激光直寫(xiě)系統(tǒng)的正確做法
- 超快激光微納加工中心的技術(shù)與應(yīng)用