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勻膠機,旋涂儀PX 2857
勻膠機PX 2857
納米壓印設(shè)備PX 0
AC200-PP-CTM勻膠顯影機PX 5000
HMS-901HS晶圓烤膠機PX 0
Diener 等離子去膠機 Tetra16PX 4502
Diener 等離子去膠機 NANO 6,8,12PX 4502
Tetra42Diener 等離子去膠機PX 4502
ML-6000X日本進口MUSASHI武藏點膠機PX 1584
EVG101光刻膠勻膠機PX 7260
TTT-UV Litho-ACA高靈活性 科研版無掩膜光刻機PX 0
SC100-PE型勻膠機PX 3956
EZH-S可控溫型勻膠機PX 3956
EZ4小巧型勻膠機PX 3956
SC100-SE標準型精密勻膠機PX 3956
EZ6高精密勻膠機PX 3956
TTT-UV Litho-Y教育版無掩膜光刻機PX 0
TTT-UV Litho-BIO生命科學(xué)無掩膜光刻機PX 0
TTT-UV Litho-S高速版無掩膜光刻機PX 0
KW-4C賽德凱斯實驗室用勻膠機旋涂儀觸摸屏帶程控PX 0
IQ Aligner NTDymek岱美中國儀器自動掩模對準系統(tǒng)PX 7260
EVG7300多功能紫外納米壓印光刻系統(tǒng)PX 7260
EVG720自動化SmartNIL紫外納米壓印光刻系統(tǒng)PX 7260
EVG770 NTDymek岱美儀器分步重復(fù)納米壓印光刻機PX 7260
HERCULESDymek岱美儀器量產(chǎn)型光刻機系統(tǒng)PX 7260
EVG6200 NT掩模對準光刻系統(tǒng)PX 7260
Dymek岱美儀器EVG620 NT掩模對準光刻機系統(tǒng)PX 7260
KWD臺式勻膠機PX 2307
TTT-UV Litho-ACA科研版無掩膜光刻機PX 0
KW-4B新型臺式勻膠機 甩膠機PX 2307
勻膠機旋涂儀PX 5000
自動勻膠顯影機PX 5000
伺服勻膠機PX 5000
SC200-SE高精密勻膠機PX 2307
SC100-PE型勻膠機PX 2307
SC100-SR分體式勻膠機PX 2307
SC100-SE高精密勻膠機PX 2307
EZ8高精密型勻膠機PX 2307
EZ4小型勻膠機EZ4PX 2307
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
POLOS® BEAM XL Mk2無掩模光刻機
POLOS® BEAM Mk2 無掩模光刻機
日本無掩膜光刻機 研發(fā)及小批量訂單利器
勻膠機
臺式光刻機
實驗室光刻機
勻膠機旋涂儀
自動勻膠顯影機
國產(chǎn)等離子刻蝕機
小型等離子去膠機清洗機
微波等離子去膠機
上海衡平儀器儀表有限公司
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