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在線(xiàn)詢(xún)價(jià)
UniHotplate桌面型熱板PX 1833
UniCoater桌面型旋涂勻膠設(shè)備PX 1833
GL150 PreNIL/GL300 PreNIL全自動(dòng)納米壓印光刻預(yù)處理設(shè)備PX 1833
GL Spin+HP旋涂勻膠設(shè)備+熱板PX 1833
GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備PX 1833
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備PX 1833
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備PX 1833
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備PX 1833
GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線(xiàn)PX 1833
UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備PX 1833
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備PX 1833
GL300 MLA全自動(dòng)紫外納米壓印光刻設(shè)備PX 1833
HoloPrinter納米壓印-光刻機(jī)PX 2917
納米壓印系統(tǒng)-光刻機(jī)PX 2917
spin coater勻膠機(jī)PX 2917
勻膠機(jī)、旋涂?jī)x(德國(guó)產(chǎn)、高性能)PX 2917
勻膠機(jī),旋涂?jī)xPX 2917
勻膠機(jī)PX 2917
納米壓印設(shè)備PX 0
EZ4-S小巧型勻膠機(jī)/甩膠機(jī)/旋涂?jī)xPX 5137
Diener 等離子去膠機(jī) Tetra16PX 5460
Diener 等離子去膠機(jī) NANO 6,8,12PX 5460
Tetra42Diener 等離子去膠機(jī)PX 5460
ML-6000X日本進(jìn)口MUSASHI武藏點(diǎn)膠機(jī)PX 2031
EVG101光刻膠勻膠機(jī)PX 7415
TTT-UV Litho-ACA高靈活性 科研版無(wú)掩膜光刻機(jī)PX 0
SC100-PE型勻膠機(jī)PX 3956
EZH-S可控溫型勻膠機(jī)PX 3956
EZ4小巧型勻膠機(jī)PX 3956
SC100-SE標(biāo)準(zhǔn)型精密勻膠機(jī)PX 3956
EZ6高精密勻膠機(jī)PX 3956
TTT-UV Litho-Y教育版無(wú)掩膜光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-BIO生命科學(xué)無(wú)掩膜光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-S高速版無(wú)掩膜光刻機(jī)PX 0
KW-4C賽德凱斯實(shí)驗(yàn)室用勻膠機(jī)旋涂?jī)x觸摸屏帶程控PX 0
IQ Aligner NTDymek岱美中國(guó)儀器自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)PX 7415
EVG7300多功能紫外納米壓印光刻系統(tǒng)PX 7415
EVG720自動(dòng)化SmartNIL紫外納米壓印光刻系統(tǒng)PX 7415
EVG770 NTDymek岱美儀器分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)PX 7415
HERCULESDymek岱美儀器量產(chǎn)型光刻機(jī)系統(tǒng)PX 7415
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
日本無(wú)掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器
勻膠機(jī)
臺(tái)式光刻機(jī)
實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)
勻膠機(jī)旋涂?jī)x
自動(dòng)勻膠顯影機(jī)
伺服勻膠機(jī)
臺(tái)式勻膠機(jī)
微波等離子去膠機(jī)
等離子表面處理機(jī)
自動(dòng)顯影勻膠機(jī)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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