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customized多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)PX 1950
SENTECH 集群系統(tǒng)等離子刻蝕集群系統(tǒng)PX 1950
SENTECH SI 500 CCPRIE等離子刻蝕系統(tǒng)PX 1950
SENTECH SI 591等離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 1950
SENTECH Etchlab 200 RIERIE等離子蝕刻系統(tǒng)PX 1950
RIE-350iPC等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1950
SENTECH SI 500 C低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)PX 1950
LMEC-30012英寸特種金屬膜層刻蝕設(shè)備PX 1950
Pangea® A 系列12英寸離子束塑形(IBS) 設(shè)備PX 1950
RIE-200NLRIE等離子刻蝕系統(tǒng)PX 1950
Lorem® A 系列8英寸離子束塑形(IBS)設(shè)備PX 1950
Ganister™ A 系列8英寸離子束沉積(IBD)設(shè)備PX 1950
Herent® Chimera® A12英寸硬掩膜刻蝕設(shè)備PX 1950
Herent® Chimera® M12英寸金屬刻蝕設(shè)備PX 1950
Tebaank® Pishow® P8英寸硅刻蝕設(shè)備PX 1950
Kessel® Pishow® M8英寸金屬刻蝕設(shè)備PX 1950
Pishow® A 系列8英寸電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備PX 1950
Pishow® D 系列8英寸電感耦合等離子體-深硅刻蝕設(shè)備PX 1950
Haasrode® Avior® A電容耦合等離子體刻蝕(CCP)設(shè)備PX 1950
Shale® C 系列8英寸電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1950
RIE200/Plus反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PX 1950
RIE-230iPC等離子體(ICP) 刻蝕設(shè)備PX 1950
PlasmaPro 100 ALE原子層刻蝕PX 1950
SI 500 C等離子體蝕刻系統(tǒng)PX 1950
SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子蝕刻系統(tǒng)PX 1950
Etchlab 200開(kāi)蓋等離子蝕刻系統(tǒng)PX 1950
FEMTO德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)PX 3478
Atto德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)PX 3478
ZEPTO德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)PX 3478
FPESI-E3611離子體灰化蝕刻系統(tǒng)PX 4649
DISC-ICP-601/801/1201/感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)(ICP)PX 0
DISC-RIE-601/801/1201反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)PX 0
DISC-IBE-150C/200C離子束刻蝕機(jī)(IBE)PX 0
SAT 100等離子清洗機(jī)廠家PX 0
SAT 210等離子清洗機(jī)PX 0
SAT 320賽奧特(SAT)粉末/粉體/顆粒等離子處理PX 0
SAT-5D(MFC)內(nèi)置MFC等離子清洗機(jī)PX 0
SAT 510等離子刻蝕PX 0
SAT 620等離子灰化PX 0
RIE-10NR日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備PX 3005
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
森泰克刻蝕機(jī)Etchlab 200
森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)SI 500
等離子刻蝕集群系統(tǒng)
RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
等離子刻蝕系統(tǒng)RIE
RIE等離子蝕刻系統(tǒng)
低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)
單晶圓刻蝕系統(tǒng)
等離子體刻蝕機(jī)
大氣常壓等離子處理機(jī)器
日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
廣播電視節(jié)目經(jīng)營(yíng)許可證
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